[發明專利]一種超薄Rh納米片組成的納米花的制備方法有效
| 申請號： | 201710612608.3 | 申請日： | 2017-07-25 |
| 公開（公告）號： | CN107234246B | 公開（公告）日： | 2019-08-20 |
| 發明（設計）人： | 陳煜;劉慧敏;漢術和 | 申請（專利權）人： | 陜西師范大學 |
| 主分類號： | B22F9/24 | 分類號： | B22F9/24;B22F1/00;B01J23/46;B01J35/02;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 西安永生專利代理有限責任公司 61201 | 代理人： | 高雪霞 |
| 地址： | 710062 *** | 國省代碼： | 陜西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 納米花 納米片 制備 合成氨 前驅體 還原法 電催化活性 電化學 尺寸均一 催化反應 形狀規則 原料合成 鈷氰化鉀 分散性 還原劑 氯化銠 甲醛 還原 應用 | ||
1.一種超薄Rh納米片組成的納米花的制備方法，其特征在于它由下述步驟組成：
（1）制備RhCl3-K3Co(CN)6氰膠
將RhCl3水溶液和K3Co(CN)6水溶液混合均勻，在75～100℃下加熱反應20～36小時，得到RhCl3-K3Co(CN)6氰膠；所述RhCl3水溶液中RhCl3的濃度為0.025～0.3mol/L，K3Co(CN)6水溶液中K3Co(CN)6的濃度為0.025～0.3mol/L，RhCl3與K3Co(CN)6的摩爾比為1:0.25～2；
（2）制備超薄Rh納米片組成的納米花
將RhCl3-K3Co(CN)6氰膠與甲醛水溶液按體積比為1.5～5:1混合，在160～190℃下還原反應10～16小時，反應結束后冷卻、離心、洗滌、干燥，得到超薄Rh納米片組成的納米花。
2.根據權利要求1所述的超薄Rh納米片組成的納米花的制備方法，其特征在于：步驟（1）中，所述RhCl3水溶液中RhCl3的濃度為0.05～0.15mol/L，K3Co(CN)6水溶液中K3Co(CN)6的濃度為0.05～0.15mol/L，RhCl3與K3Co(CN)6的摩爾比為1:0.5～1。
3.根據權利要求1或2所述的超薄Rh納米片組成的納米花的制備方法，其特征在于：步驟（1）中，在90～95℃下還原反應24小時。
4.根據權利要求1所述的超薄Rh納米片組成的納米花的制備方法，其特征在于：步驟（2）中，所述RhCl3-K3Co(CN)6氰膠與甲醛水溶液的體積比為2～4:1。
5.根據權利要求1或4所述的超薄Rh納米片組成的納米花的制備方法，其特征在于：所述甲醛水溶液中甲醛的質量濃度為20%～40%。
6.根據權利要求5所述的超薄Rh納米片組成的納米花的制備方法，其特征在于：步驟（2）中，在180℃下還原反應12小時。
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