[發明專利]高選擇性淺槽隔離化學機械拋光漿料的制備工藝

有效

• 申請號: 201710607527.4
• 申請日: 2017-07-24
• 公開（公告）號: CN107353833B
• 公開（公告）日: 2020-05-12
• 發明（設計）人: 崔凌霄;謝兵;楊國勝;張存瑞;劉致文;趙延;程磊;杜悅;張倩悅
• 申請（專利權）人: 包頭天驕清美稀土拋光粉有限公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02;H01L21/768
• 代理公司: 北京康盛知識產權代理有限公司 11331
• 代理人: 張宇峰

1.一種高選擇性淺槽隔離化學機械拋光漿料的制備工藝，包括：

制取碳酸鈰漿料，碳酸鈰漿料經升溫、灼燒制備納米級的氧化鈰；制取碳酸鈰漿料過程中，在不銹鋼攪拌罐中加入碳酸鈰，加去離子水調漿，將調好的漿料用砂磨機研磨，得到碳酸鈰漿料；制備納米級的氧化鈰過程包括：將碳酸鈰漿料打入不銹鋼反應釜中，升溫到93-97℃，攪拌下恒溫40-50分鐘；碳酸鈰經加水調漿，常壓下升溫到煮沸轉化成堿式碳酸鈰，經噴霧干燥得到堿式碳酸鈰粉末；堿式碳酸鈰經600℃-1050℃灼燒成氧化鈰；

將氧化鈰用去離子水調漿，經高速剪切乳化、高速離心分離、超聲波分散后制得氧化鈰拋光漿料；氧化鈰拋光漿料包括水、氧化鈰、分散劑、聚甲基丙烯酸鹽、pH緩沖調節劑；按照質量百分比計，氧化鈰的含量為0.3-25％，聚甲基丙烯酸鹽為固體氧化鈰的0.05％-5％，分散劑為聚甲基丙烯酸鹽的10％-50％，pH緩沖調節劑含量為4％-6％；pH緩沖調節劑采用磷酸、醋酸、硼酸、氫氧化鈉混合配制而成；分散劑選用聚乙二醇、十二烷基磺酸鈉、乙二胺四乙酸、乙二胺四乙酸二鈉中的一種或者多種。