[發明專利]一種溴化鉀底座及其制作方法與應用在審
| 申請號: | 201710597117.6 | 申請日: | 2017-07-20 |
| 公開(公告)號: | CN107462519A | 公開(公告)日: | 2017-12-12 |
| 發明(設計)人: | 蔡逸濤 | 申請(專利權)人: | 蔡逸濤 |
| 主分類號: | G01N21/01 | 分類號: | G01N21/01;G01N21/3563 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 210016 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 溴化鉀 底座 及其 制作方法 應用 | ||
技術領域
本發明涉及礦物元素檢測領域,尤其涉及一種溴化鉀底座及其制作方法與應用。
背景技術
現有技術中,傅里葉可變紅外方法無法對小于1mm的金剛石礦物單顆粒進行紅外掃描,普遍存在以下問題:
1、極微小礦物在測量時,本底容易出現干擾;
2、顆粒樣品易隨氣流進入真空泵的問題,造成儀器損害;
3、空氣中氮氣極易對檢測結果產生干擾。
發明內容
本發明提供了一種溴化鉀底座及其制作方法與應用,解決了傅里葉可變紅外傳統方法無法對小于1mm的金剛石礦物單顆粒進行紅外掃描的技術問題,該溴化鉀底座利用純溴化鉀壓片作為金剛石單礦物的底座,解決了其他物質固定極微小礦物的時候測量本底干擾問題。
為達到上述目的,本發明的實施例采用如下技術方案:
一種溴化鉀底座,其特征在于,包括溴化鉀壓片以及溴化鉀壓片表面上設置的空心樣品倉。
進一步的,所述溴化鉀壓片為高度4-6mm、直徑15-25mm的圓柱體。
進一步的,所述空心樣品倉為深度2-4mm、直徑2-4mm的圓柱體空腔。
一種溴化鉀底座的制作方法,其特征在于,包括如下步驟:
a1)研磨:采用瑪瑙研缽將溴化鉀原料研細至200目以下,得細化溴化鉀;
a2)烘干:將步驟1)中的細化溴化鉀放入烘箱中進行干燥,得干燥溴化鉀;
a3)定型:將步驟2)中的干燥溴化鉀填充到模具中、并將填充后的模具放到壓片機上加壓至20-30MPa、停留1-3分鐘后,得溴化鉀壓片;
a4)打孔:將步驟3)中的溴化鉀壓片從模具中取出,使用微鉆在溴化鉀壓片的表面鉆取微孔,鉆取的微孔形成空心樣品倉。
一種溴化鉀底座在N元素分布測試中的應用,其特征在于,包括如下步驟:
1)放樣:將待測試樣品放置于溴化鉀底座的空心樣品倉中;
2)抽真空:將裝有待測樣品的溴化鉀底座放入紅外顯微鏡的密封艙內,關閉艙門并抽真空;
3)填充氬氣:紅外顯微鏡的密封艙抽真空后填充氬氣,使裝有待測試樣品的溴化鉀底座置于全氬氣環境中;
4)掃描分析:對待測試樣品進行從外向內的掃描,從而得到待測樣品從內到外N元素的濃度分布情況。
本發明的一種溴化鉀底座及其制作方法與應用具有以下有益效果:
1、利用純溴化鉀壓片作為金剛石單礦物的底座,解決了其他物質固定極微小礦物的時候測量本底干擾問題;
2、解決了紅外光譜抽真空的時候小顆粒樣品易隨氣流進入真空泵的問題,穩定極微小礦物,在純溴化鉀壓片上設置了1-3mm的樣品槽;
3、由于測量極微小礦物金剛石礦物,主要目的是要測量N元素的分布,空氣中氮氣極易產生干擾問題,本次專利中利用抽真空然后充填氬氣方式解決。
附圖說明
圖1為本發明的溴化鉀底座結構示意圖;
圖2為本發明的傅里葉可變紅外孤原子N元素帶掃描積分圖;
圖3為本發明的面掃描平面積分圖。
圖中:1-溴化鉀壓片、2-空心樣品倉。
具體實施方式
根據附圖所示,對本發明進行進一步說明:
實施例一
如圖1所示,一種溴化鉀底座其特征在于,包括發明溴化鉀壓片1以及發明溴化鉀壓片1表面上設置的空心樣品倉2。所述發明溴化鉀壓片1為高度4mm、直徑15的圓柱體。所述空心樣品倉2為深度2mm、直徑2mm的圓柱體空腔,圓柱體空腔與圓柱體同心布置。
一種溴化鉀底座的制作方法,包括如下步驟:
a1)研磨:采用瑪瑙研缽將溴化鉀原料研細200目,得細化溴化鉀;
a2)烘干:將步驟1)中的細化溴化鉀放入烘箱中進行干燥,得干燥溴化鉀;
a3)定型:將步驟2)中的干燥溴化鉀填充到模具中、并將填充后的模具放到壓片機上加壓至20MPa、停留1分鐘后,得發明溴化鉀壓片1;
a4)打孔:將步驟3)中的發明溴化鉀壓片1從模具中取出,使用微鉆在發明溴化鉀壓片1的表面鉆取微孔,鉆取的微孔形成空心樣品倉2。
一種溴化鉀底座在N元素分布測試中的應用,包括如下步驟:
1)放樣:將待測試樣品放置于溴化鉀底座的空心樣品倉2中;
2)抽真空:將裝有待測樣品的溴化鉀底座放入紅外顯微鏡的密封艙內,關閉艙門并抽真空;
3)填充氬氣:紅外顯微鏡的密封艙抽真空后填充氬氣,使裝有待測試樣品的溴化鉀底座置于全氬氣環境中;
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于蔡逸濤,未經蔡逸濤許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710597117.6/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





