[發明專利]一種母板曝光方法有效
| 申請號： | 201710595988.4 | 申請日： | 2017-07-20 |
| 公開（公告）號： | CN107422610B | 公開（公告）日： | 2019-09-24 |
| 發明（設計）人： | 齊鵬博 | 申請（專利權）人： | 武漢華星光電技術有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黃威 |
| 地址： | 430079 湖北省武漢市*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 母板 曝光 方法 | ||
1.一種母板曝光方法，其特征在于，包括：
將待曝光的母板放置于掩膜板下方；
通過所述掩膜板對所述母板的光阻層進行曝光，以形成多個呈矩陣排列的曝光區，其中，相鄰行曝光區之間具有行間隔區，相鄰列曝光區之間具有列間隔區；
移除所述掩膜板；以及，
使用光源對所述行間隔區和所述列間隔區的光阻層進行照射；其中，
所述行間隔區的寬度和所述列間隔區的寬度介于0-8毫米之間；所述光源置于所述母板上方；所述行間隔區的寬度小于相鄰行曝光區之間的間距，所述列間隔的寬度小于相鄰列曝光區之間的間距；
所述光阻層采用正光阻。
2.根據權利要求1所述的母板曝光方法，其特征在于，所述光源包括至少一個第一條形光源和至少一個第二條形光源，其中，所述第一條形光源的形狀與任一所述行間隔區的形狀相匹配，所述第二條形光源的形狀與任一所述列間隔區的形狀相匹配。
3.根據權利要求2所述的母板曝光方法，其特征在于，多個所述第一條形光源和多個所述第二條形光源拼接而成的圖案與多個所述行間隔區和多個所述列間隔區拼接而成的圖案相同。
4.根據權利要求2或3所述的母板曝光方法，其特征在于，所述使用光源對所述行間隔區和所述列間隔區的光阻層進行照射的步驟，包括：
使用多個所述第一條形光源和多個所述第二條形光源拼接而成的圖案一次性對所述母板的光阻層進行照射。
5.根據權利要求2所述的母板曝光方法，其特征在于，所述使用光源對所述行間隔區和所述列間隔區的光阻層進行照射的步驟，包括：
使用一個所述第一條形光源分別對多個所述行間隔區的光阻層進行照射；以及，
使用一個所述第二條形光源對多個所述列間隔區的光阻層進行照射。
6.根據權利要求5所述的母板曝光方法，其特征在于，所述第一條形光源可沿行方向移動，所述第二條形光源可沿列方向移動。
7.根據權利要求1所述的母板曝光方法，其特征在于，所述光源為紫外線光源或激光光源。
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