[發(fā)明專利]具有透明背面涂層的光學(xué)介質(zhì)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710587979.0
• 申請(qǐng)日: 2012-12-19
• 公開（公告）號(hào): CN107393563A
• 公開（公告）日: 2017-11-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: E·K·金
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 甲骨文國際公司
• 主分類號(hào): G11B7/252
• 分類號(hào): G11B7/252;G11B7/254
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所11038
• 代理人: 張鑫

本申請(qǐng)是國際申請(qǐng)日為2012年12月19日、名稱為“具有透明背面涂層的光學(xué)介質(zhì)”、申請(qǐng)?zhí)枮?01280063190.0(PCT/US2012/070532)的發(fā)明專利申請(qǐng)的分案申請(qǐng)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及用于光帶的背面涂層并且涉及用于產(chǎn)生具有背面涂層的光帶的方法和系統(tǒng)。

背景技術(shù)

光帶是用于數(shù)據(jù)存儲(chǔ)的介質(zhì)。光帶可以包括薄背面涂層，以改善纏繞性質(zhì)并防止靜電荷。典型的背面涂層是由(i)導(dǎo)電并且(ii)強(qiáng)紫外線(UV)輻射吸收或反射的材料形成的。

卷到卷納米壓印光刻系統(tǒng)用于利用諸如平臺(tái)和溝槽及擺動(dòng)模式的納米結(jié)構(gòu)特征的壓印來構(gòu)圖或預(yù)格式化光帶。預(yù)格式化操作包括利用UV輻射固化光帶的光聚合材料。因此，UV輻射吸收或反射的背面涂層可會(huì)導(dǎo)致卷到卷過程吞吐量的相當(dāng)大的減小。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的實(shí)施例針對(duì)諸如光帶的光學(xué)介質(zhì)，這種光帶具有光學(xué)透明并且導(dǎo)電的背面涂層。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的背面涂層至少在紫外線(UV)輻射范圍內(nèi)是光學(xué)透明的并且因此與UV輻射吸收或反射的典型背面涂層不同。因?yàn)楦鶕?jù)本發(fā)明實(shí)施例的背面涂層是UV透明并且導(dǎo)電的，所以可以在不犧牲卷到卷壓印過程吞吐量的情況下獲得期望的纏繞性質(zhì)和靜電荷去除特性。

根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的、用于諸如光帶的光學(xué)介質(zhì)的背面涂層可以由光學(xué)透明并且導(dǎo)電的氧化物形成，包括氧化銦錫(ITO)、氟化物摻雜的氧化錫(FTO)以及摻雜的氧化鋅。作為替代或者附加地，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的、用于諸如光帶的光學(xué)介質(zhì)的背面涂層可以由光學(xué)透明并且導(dǎo)電的材料形成，包括導(dǎo)電聚合物、具有納米碳管的膜、石墨烯，及金屬網(wǎng)格結(jié)構(gòu)，以及其它有機(jī)膜和其它金屬網(wǎng)格膜。這種氧化物和材料可以用作根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光帶的背面涂層，以便讓背面涂層能夠獲得UV透明并且導(dǎo)電的性質(zhì)。

本發(fā)明的一個(gè)目標(biāo)包括諸如光帶的光學(xué)介質(zhì)，該光學(xué)介質(zhì)具有至少在UV輻射范圍內(nèi)透明并且導(dǎo)電的背面涂層。

本發(fā)明的另一個(gè)目標(biāo)包括用于產(chǎn)生諸如光帶的光學(xué)介質(zhì)的方法及系統(tǒng)，其中光學(xué)介質(zhì)具有至少在UV輻射范圍內(nèi)透明并且導(dǎo)電的背面涂層。

在執(zhí)行以上目標(biāo)和其它目標(biāo)當(dāng)中一個(gè)或多個(gè)時(shí)，本發(fā)明的實(shí)施例提供具有襯底、襯底一側(cè)上的預(yù)格式化層以及背面涂層的光學(xué)介質(zhì)。背面涂層是光學(xué)透明的并且導(dǎo)電。襯底和預(yù)格式化層當(dāng)中的一個(gè)在背面涂層與襯底和預(yù)格式化層當(dāng)中的另一個(gè)之間。

在一個(gè)實(shí)施例中，背面涂層至少在紫外線范圍內(nèi)是光學(xué)透明的。背面涂層可以包括光學(xué)透明并且導(dǎo)電的氧化物，諸如氧化銦錫(ITO)、氟化物摻雜的氧化錫(FTO)以及摻雜的氧化鋅。背面涂層可以包括導(dǎo)電聚合物、具有納米碳管的膜、石墨烯和金屬網(wǎng)格結(jié)構(gòu)當(dāng)中的至少一種。在一個(gè)實(shí)施例中，背面涂層在襯底的相對(duì)側(cè)上并且記錄層可以在預(yù)格式化層上。在另一個(gè)實(shí)施例中，背面涂層在襯底同一側(cè)上與預(yù)格式化層分開放置。在這種實(shí)施例中，記錄層可以在背面涂層上并且在背面涂層和預(yù)格式化層之間。

另外，在執(zhí)行以上目標(biāo)和其它目標(biāo)當(dāng)中的一個(gè)或多個(gè)時(shí)，本發(fā)明的實(shí)施例提供用于生成諸如光帶的光學(xué)介質(zhì)的方法。該方法包括在襯底的一側(cè)上淀積光學(xué)透明并且導(dǎo)電的背面涂層。該方法還包括在襯底的相對(duì)側(cè)上淀積聚合物層。該方法還包括利用具有突起的鼓用凸印紋凸印(emboss)聚合物層并且在從鼓除去聚合物層之前硬化該聚合物層的凸印表面。

而且，在執(zhí)行以上目標(biāo)和其它目標(biāo)當(dāng)中一個(gè)或多個(gè)時(shí)，本發(fā)明提供用于生成諸如光帶的光學(xué)介質(zhì)的系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括背面涂覆階段、凸印單體涂覆階段、凸印組件以及固化組件。背面涂覆階段配置為在襯底的一側(cè)上淀積光學(xué)透明并且導(dǎo)電的背面涂層。凸印單體涂覆階段配置為在襯底的相對(duì)側(cè)上淀積聚合物層。凸印組件具有配置為用凸印紋凸印聚合物層的帶突起的鼓。固化組件具有配置為在從鼓除去聚合物層之前利用紫外線輻射照射該聚合物層的凸印表面的光照源。

附圖說明

圖1根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例說明了光帶的截面圖；

圖2說明了用于產(chǎn)生光帶的光帶生成系統(tǒng)的框圖；

圖3A說明了卷到卷系統(tǒng)的凸印/固化階段的側(cè)視圖，其中凸印/固化階段凸印或預(yù)格式化光帶中的信息承載結(jié)構(gòu)；

圖3B說明了剛好在進(jìn)入卷到卷系統(tǒng)的凸印/固化階段之前光帶的橫截面視圖；

圖3C說明了剛好在離開卷到卷系統(tǒng)的凸印/固化階段之后光帶的橫截面視圖；

圖4A說明了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例、具有第一表面入射(空氣-入射)WORM介質(zhì)層成分的光帶的截面框圖視圖；