[發明專利]一種發光二極管外延片及其制作方法有效
| 申請號: | 201710562217.5 | 申請日: | 2017-07-11 |
| 公開(公告)號: | CN107452839B | 公開(公告)日: | 2019-05-14 |
| 發明(設計)人: | 尹靈峰;王江波 | 申請(專利權)人: | 華燦光電(浙江)有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/00 | 分類號: | H01L33/00;H01L33/06;H01L33/12 |
| 代理公司: | 北京三高永信知識產權代理有限責任公司 11138 | 代理人: | 徐立 |
| 地址: | 322000 浙江省金華市義*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 發光二極管 外延 及其 制作方法 | ||
1.一種發光二極管外延片的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括:
提供一圖形化藍寶石襯底,所述圖形化藍寶石襯底的一個表面設有周期排列的圖形;
在所述圖形化藍寶石襯底設有所述圖形的表面上形成氮化鋁緩沖層,所述氮化鋁緩沖層包括位于所述圖形上的第一部分、以及位于所述圖形之間的第二部分;
在所述氮化鋁緩沖層上涂覆光刻膠,位于所述第一部分上的光刻膠的厚度小于位于所述第二部分上的光刻膠的厚度;
對所述光刻膠進行干法刻蝕,直到去除位于所述第一部分的頂部的光刻膠;
去除所述第一部分的頂部;
在所述圖形的頂部和剩余的所述光刻膠上鋪設二氧化硅材料;
去除剩余的所述光刻膠、以及位于剩余的所述光刻膠上的二氧化硅材料,位于所述圖形的頂部的二氧化硅材料形成二氧化硅層狀結構;
在所述二氧化硅層狀結構和剩余的所述氮化鋁緩沖層上依次生長N型氮化鎵層、發光層和P型氮化鎵層。
2.根據權利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述提供一圖形化藍寶石襯底,包括:
提供一藍寶石襯底,所述藍寶石襯底的表面為平面;
在所述藍寶石襯底的一個表面上涂覆光刻膠;
對所述光刻膠進行曝光和顯影,留下所述圖形所在區域的光刻膠;
對所述藍寶石襯底涂覆所述光刻膠的表面進行干法刻蝕,形成所述圖形;
去除所述光刻膠。
3.根據權利要求1或2所述的制作方法,其特征在于,所述圖形的底面上兩點之間的最大距離等于相鄰兩個所述圖形的間距。
4.根據權利要求1或2所述的制作方法,其特征在于,所述第一部分的厚度等于所述第二部分的厚度。
5.根據權利要求1或2所述的制作方法,其特征在于,所述在所述氮化鋁緩沖層上涂覆光刻膠,包括:
采用旋涂的方式在所述氮化鋁緩沖層上涂覆光刻膠,旋涂的轉速為500rpm~5000rpm。
6.根據權利要求1或2所述的制作方法,其特征在于,位于所述第二部分上的光刻膠的厚度大于所述圖形的高度。
7.根據權利要求1或2所述的制作方法,其特征在于,所述制作方法還包括:
在所述對所述光刻膠進行干法刻蝕之前,在所述光刻膠上旋涂顯影液或去膠液,對所述光刻膠進行濕法腐蝕,旋涂的轉速為100rpm~4000rpm。
8.根據權利要求1或2所述的制作方法,其特征在于,所述去除所述第一部分的頂部,包括:
采用腐蝕溶液去除所述第一部分的頂部,所述腐蝕溶液為氫氧化鉀溶液、或者氫氧化鈉溶液、或者磷酸和硝酸的混合溶液。
9.根據權利要求1或2所述的制作方法,其特征在于,所述第一部分的頂部覆蓋的圖形的高度為所述圖形的高度的1/4~1/2。
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