[發(fā)明專(zhuān)利]霧化盤(pán)和具有其的霧化裝置、無(wú)人機(jī)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710560279.2
• 申請(qǐng)日: 2017-07-11
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107234013B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-02-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李杰孫;李晟華
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 廣州極飛科技股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): B05B3/10
• 分類(lèi)號(hào): B05B3/10;B64D1/18
• 代理公司: 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201
• 代理人: 黃德海

1.一種霧化盤(pán)，其特征在于，包括：

底盤(pán)，所述底盤(pán)的上表面設(shè)有進(jìn)液空間；

多個(gè)凸條，所述多個(gè)凸條設(shè)在所述底盤(pán)的上表面上且在所述底盤(pán)的周向上間隔分布，相鄰的兩個(gè)所述凸條與底盤(pán)之間限定出與所述進(jìn)液空間連通的離心流道，所述凸條靠近所述底盤(pán)的邊緣的一端設(shè)有貫穿所述凸條的側(cè)部的第一凹槽以切割流經(jīng)所述離心流道的流體；

每個(gè)所述第一凹槽包括相對(duì)的第一壁和第二壁，所述第一壁和所述第二壁鄰近對(duì)應(yīng)的所述凸條設(shè)有所述第一凹槽的一端，所述第二壁相對(duì)于所述第一壁靠近所述底盤(pán)的上表面，所述第二壁朝向遠(yuǎn)離所述底盤(pán)的中心和靠近所述底盤(pán)的上表面的方向延伸。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的霧化盤(pán)，其特征在于，每個(gè)所述凸條呈弧形，每個(gè)所述第一凹槽貫穿對(duì)應(yīng)的所述凸條的遠(yuǎn)離所述凸條的曲率中心的一側(cè)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的霧化盤(pán)，其特征在于，所述第一凹槽相對(duì)于所述底盤(pán)傾斜設(shè)置，由所述第一凹槽的遠(yuǎn)離對(duì)應(yīng)的所述凸條的曲率中心的一側(cè)指向所述第一凹槽的靠近所述凸條的曲率中心的一側(cè)的方向?yàn)檫h(yuǎn)離所述底盤(pán)的方向。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的霧化盤(pán)，其特征在于，每個(gè)所述凸條呈直線形。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的霧化盤(pán)，其特征在于，所述第一凹槽相對(duì)于所述底盤(pán)傾斜設(shè)置。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的霧化盤(pán)，其特征在于，每個(gè)所述第一凹槽的靠近所述底盤(pán)的一端的開(kāi)口小于所述第一凹槽的遠(yuǎn)離所述底盤(pán)的開(kāi)口。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的霧化盤(pán)，其特征在于，每個(gè)所述第一凹槽貫穿對(duì)應(yīng)的所述凸條的相對(duì)兩側(cè)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的霧化盤(pán)，其特征在于，每個(gè)所述凸條上設(shè)有沿所述凸條的厚度方向依次排布的多個(gè)所述第一凹槽。

9.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的霧化盤(pán)，其特征在于，所述離心流道的出口端設(shè)有多個(gè)第二凹槽，所述多個(gè)第二凹槽沿所述底盤(pán)的周向方向依次排布，在所述底盤(pán)的軸向方向上，所述第二凹槽貫穿所述底盤(pán)以切割流經(jīng)所述離心流道的流體。

10.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的霧化盤(pán)，其特征在于，還包括蓋體，所述蓋體與所述底盤(pán)配合以覆蓋所述多個(gè)離心流道，所述蓋體上設(shè)有與所述進(jìn)液空間正對(duì)的進(jìn)液口。

11.一種霧化裝置，其特征在于，包括：

根據(jù)權(quán)利要求1-10中任一項(xiàng)所述的霧化盤(pán)；

驅(qū)動(dòng)電機(jī)，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)的電機(jī)軸與所述霧化盤(pán)配合以驅(qū)動(dòng)所述霧化盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)。

12.一種無(wú)人機(jī)，其特征在于，包括根據(jù)權(quán)利要求11所述的霧化裝置。