[發明專利]陰影渲染方法和裝置在審
| 申請號: | 201710539413.0 | 申請日: | 2017-07-04 |
| 公開(公告)號: | CN107230249A | 公開(公告)日: | 2017-10-03 |
| 發明(設計)人: | 張東 | 申請(專利權)人: | 北京像素軟件科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G06T15/60 | 分類號: | G06T15/60 |
| 代理公司: | 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙)11371 | 代理人: | 王術蘭 |
| 地址: | 102200 北京市昌平區*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 陰影 渲染 方法 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及圖像處理領域,具體而言,涉及陰影渲染方法和裝置。
背景技術
在一個三維游戲中,為了表現出三維場景的真實性,美化渲染場景,通常會給游戲物體加上陰影的效果,即遮擋住光線的部分會顯得比較暗。通常游戲中的陰影效果使用ShadowMap技術實現。這樣的陰影效果比較接近真實世界的光學原理,對于普通個人電腦來說也能夠在保證效果正確的前提下機器也足夠負載起其消耗。然而在大型手機網絡游戲的渲染過程中,由于某些低端機器性能問題,承受不了使用ShadowMap帶來的內存和運行速度上的消耗。
發明內容
本發明提供陰影渲染方法和裝置,旨在改善上述問題。
第一方面,本發明提供的一種陰影渲染方法,用于渲染應用程序中多個角色的陰影。所述方法包括:獲取所述應用程序中全部所述角色的第一數量;建立對應所述應用程序的骨骼模型,其中,所述骨骼模型中包含第二數量的骨骼,所述第一數量等于所述第二數量;查找每個所述角色的標志點,將每個所述骨骼匹配至多個所述角色中一個角色的標志點;渲染所述骨骼模型中的全部所述骨骼,生成每個所述角色的陰影。
第二方面,本發明提供的一種,用于渲染應用程序中多個角色的陰影。 述陰影渲染裝置包括:角色數量獲取模塊、模型建立模塊、骼匹配模塊和陰影生成模塊。角色數量獲取模塊,用于獲取所述應用程序中全部所述角色的第一數量。模型建立模塊,用于建立對應所述應用程序的骨骼模型,其中,所述骨骼模型中包含第二數量的骨骼,所述第一數量等于所述第二數量。骨骼匹配模塊,用于查找每個所述角色的標志點,將每個所述骨骼匹配至多個所述角色中一個角色的標志點。陰影生成模塊,用于渲染所述骨骼模型中的全部所述骨骼,生成每個所述角色的陰影。
上述本發明實施例提供的陰影渲染方法和裝置,用于渲染應用程序中多個角色的陰影。首先獲取所述應用程序中全部所述角色的第一數量,獲取對應該應用程序的骨骼模型,使得所述骨骼模型包含的骨骼的第二數量與角色的第一數量保持一致,以使每個骨骼可以匹配至一個角色。建立第二數量的骨骼的骨骼模型后,進行骨骼角色匹配。查找每個所述角色的標志點,將一個骨骼匹配至一個角色的標志點,即可完成骨骼模型中每個骨骼與每個角色的匹配。完成匹配后,渲染所述骨骼模型中的全部所述骨骼,即可生成每個所述角色的陰影。通過骨骼渲染的方式,將骨骼模型中的每個骨骼匹配一個角色,作為該角色的陰影。通過渲染骨骼模型中全部骨骼即可實現對應用程序中多個角色的陰影渲染,在保證渲染體驗的前提下,降低了陰影緩沖區渲染代價,提高了渲染速度。
附圖說明
為了更清楚地說明本發明實施例的技術方案,下面將對實施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹,應當理解,以下附圖僅示出了本發明的某些實施例,因此不應被看作是對范圍的限定,對于本領域普通技術人員來講,在不付出創造性勞動的前提下,還可以根據這些附圖獲得其他相關的附圖。
圖1示出了本發明實施例提供的應用終端的方框示意圖;
圖2示出了本發明實施例提供的陰影渲染方法的流程圖;
圖3示出了本發明實施例提供的陰影渲染方法的步驟S204的流程圖;
圖4示出了本發明實施例提供的步驟S303的流程圖;
圖5示出了本發明實施例提供的步驟S402的流程圖;
圖6示出了本發明實施例提供的陰影渲染裝置的功能模塊圖。
具體實施方式
本領域技術人員長期以來一直在尋求一種改善該問題的工具或方法。
鑒于此,本發明的設計者通過長期的探索和嘗試,以及多次的實驗和努力,不斷的改革創新,得出本方案所示的陰影渲染方法和裝置。
為使本發明實施例的目的、技術方案和優點更加清楚,下面將結合本發明實施例中的附圖,對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例是本發明一部分實施例,而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例,本領域普通技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發明保護的范圍。因此,以下對在附圖中提供的本發明的實施例的詳細描述并非旨在限制要求保護的本發明的范圍,而是僅僅表示本發明的選定實施例。基于本發明中的實施例,本領域普通技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發明保護的范圍。
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