[發(fā)明專利]晶圓頂針及其形成方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710525497.2 | 申請(qǐng)日: | 2017-06-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109216254A | 公開(公告)日: | 2019-01-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 三重野文健 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海新昇半導(dǎo)體科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/687 | 分類號(hào): | H01L21/687 |
| 代理公司: | 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 余昌昊 |
| 地址: | 201306 上海*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 圓頂針 頂針 接觸層 立方碳化硅 支撐桿 晶圓 外延生長(zhǎng)工藝 表面粗糙度 生產(chǎn)產(chǎn)品 升降過程 外延生長(zhǎng) 支撐裝置 顆粒物 耐腐蝕 支撐頭 耐磨 支撐 種晶 保證 | ||
本發(fā)明提供一種晶圓頂針及其形成方法,所術(shù)晶圓頂針用于支撐晶圓,所述晶圓頂針包括頂針本體和接觸層,所述頂針本體包括支撐桿和位于所述支撐桿上的支撐頭,所述接觸層位于所述頂針本體表面上,所述接觸層為立方碳化硅層。本發(fā)明提供的晶圓頂針及其形成方法,晶圓頂針用于支撐進(jìn)行外延生長(zhǎng)的晶圓,晶圓頂針包括頂針本體和位于所述頂針本體表面上的接觸層,所述接觸層為立方碳化硅,使晶圓頂針具有較佳的表面粗糙度并且更佳耐磨和耐腐蝕,可適應(yīng)于外延生長(zhǎng)工藝的需要,并可在支撐裝置中的升降過程中減少晶圓頂針產(chǎn)生的顆粒物,保證生產(chǎn)產(chǎn)品的品質(zhì)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種晶圓頂針及其形成方法。
背景技術(shù)
在半導(dǎo)體制造工藝中,晶圓(Wafer)的制造對(duì)工藝要求非常高,整個(gè)工藝過程可分為許多個(gè)制程,每個(gè)制程都會(huì)涉及到晶圓的放置,通常是通過對(duì)應(yīng)的支撐裝置來滿足各制程的需要。
當(dāng)制程中需要對(duì)晶圓靠近支撐裝置的一面進(jìn)行工藝處理時(shí),例如晶圓表面的外延生長(zhǎng),在現(xiàn)有技術(shù)中,通常會(huì)使用到晶圓頂針。如圖1所示,具有晶圓頂針2的支撐裝置1,通過晶圓頂針2支撐晶圓3,支撐裝置1通過在晶圓頂針2的底部的升降結(jié)構(gòu)使晶圓3實(shí)現(xiàn)上升與下降,從而可對(duì)晶圓3的支撐所在面進(jìn)行工藝處理。但是,現(xiàn)有技術(shù)的晶圓頂針容易引發(fā)顆粒物問題,在晶圓頂針在支撐臺(tái)中上升與下降過程中由于相互摩擦?xí)a(chǎn)生顆粒物,這些顆粒物可能會(huì)影響工藝處理中的晶圓。
因此,如何提供一種減少顆粒物產(chǎn)生的晶圓頂針是本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的一個(gè)技術(shù)問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種晶圓頂針及其形成方法,解決晶圓頂針產(chǎn)生顆粒物的問題。
為了解決上述問題,本發(fā)明提供一種晶圓頂針,所術(shù)晶圓頂針用于支撐晶圓,所述晶圓頂針包括頂針本體和接觸層,所述頂針本體包括支撐桿和位于所述支撐桿上的支撐頭,所述接觸層位于所述頂針本體表面上,所述接觸層為立方碳化硅層。
可選的,在所述晶圓頂針中,所述接觸層的表面粗糙度在0.5um以下。
可選的,在所述晶圓頂針中,所述頂針本體的材料為單晶硅。
可選的,在所述晶圓頂針中,所述頂針本體的表層形成有硅化物層。
可選的,在所述晶圓頂針中,所述支撐桿上具有溝槽。
可選的,在所述晶圓頂針中,所述支撐頭的投影面積大于所述支撐桿的投影面積,所述支撐頭遠(yuǎn)離所述支撐桿的一側(cè)為球面。
可選的,在所述晶圓頂針中,所述頂針本體為一體成型結(jié)構(gòu)。
可選的,在所述晶圓頂針中,所述晶圓頂針用于化學(xué)氣相沉積腔體中或原子層沉積腔體中,所述晶圓頂針的數(shù)量為多個(gè)。
本發(fā)明還提供一種晶圓頂針的形成方法,包括:
提供一頂針本體;
通過沉積工藝在所述頂針本體上形成立方碳化硅層,所述沉積工藝采用的材料包括三氯氫硅、丙烷和氫氣。
可選的,在所述晶圓頂針的形成方法中,所述沉積工藝的工藝條件為:0.05Torr~1Torr,1000℃~1200℃。
本發(fā)明提供的晶圓頂針及其形成方法,晶圓頂針用于支撐晶圓,晶圓頂針包括頂針本體和位于所述頂針本體表面上的接觸層,所述接觸層為立方碳化硅,使晶圓頂針具有較佳的表面粗糙度并且更佳耐磨和耐腐蝕,可適應(yīng)于外延生長(zhǎng)工藝的需要,并可在支撐裝置中的升降過程中減少晶圓頂針產(chǎn)生的顆粒物,保證生產(chǎn)產(chǎn)品的品質(zhì)。
附圖說明
圖1為現(xiàn)有技術(shù)中具有晶圓頂針的支撐裝置的結(jié)構(gòu)剖視圖;
圖2為本發(fā)明實(shí)施例的晶圓頂針的結(jié)構(gòu)示意圖;
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





