[發明專利]藥液溫度調節裝置、利用其的基板處理系統及方法

有效

• 申請號: 201710520501.6
• 申請日: 2017-06-30
• 公開（公告）號: CN107564834B
• 公開（公告）日: 2020-10-30
• 發明（設計）人: 樸庸碩;金珉植;樸鎬胤;樸康淳;趙才衍
• 申請（專利權）人: 顯示器生產服務株式會社
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 北京青松知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11384
• 代理人: 鄭青松

本發明涉及藥液溫度調節裝置、利用其的基板處理系統及方法，實時調節處理基板的藥液的溫度，并將藥液溫度調節裝置配置在儲液罐外部，由此可減少儲液罐內部空間中不必要體積。為此，本發明提供一種藥液溫度調節裝置，包括：儲液罐，收容處理基板的藥液；藥液溫度調節單元，獨立配置于所述儲液罐的外部，并且調節所述藥液的溫度；藥液循環管單元，連接所述儲液罐和所述藥液溫度調節單元，引導所述藥液移動；藥液循環泵，使藥液循環，以使收容于所述儲液罐的藥液和收容于所述藥液溫度調節單元的藥液混合。

技術領域

本發明涉及一種藥液溫度調節裝置、利用其的基板處理系統及基板處理方法,更詳細地說，涉及實時調節處理基板的藥液的溫度，并將藥液溫度調節裝置置于外部，從而可縮小儲液罐內部空間中不必要的體積的藥液溫度調節裝置、利用其的基板處理系統及基板處理方法。

背景技術

一般來說，執行半導體工藝及LCD(Liquid Crystal Display，液晶顯示器)工藝的基板處理裝置利用多種藥液執行基板的工藝。

例如，基板處理裝置進行處理基板的蝕刻工藝、清洗工藝等，在這種基板的工藝中使用多種種類的藥液，具體地說酸性溶液(氫氟酸、磺酸、硝酸、磷酸等)、堿性溶液(氫氧化鉀、氫氧化鈉、銨等)或者其中任意一種或該酸性溶液與堿性溶液的混合液等。

利用該多種種類的藥液發生化學反應，由此去除或清洗基板上不必要的物質。

在處理基板的工藝中，向基板噴射的藥液的溫度起到工藝的主要要因的作用。

因此，在蝕刻或清洗工藝中，為了基板工藝的均勻性和效率性，保持藥液固定的溫度和穩定地供應藥液是必不可少的。

一般來說，以往的藥液加熱裝置包括：加熱藥液以適合基板的工藝條件的至少一個加熱器；及用于冷卻所述藥液的冷卻裝置。

圖1作為概略示出所述藥液加熱裝置的圖面，參照該圖面對以往技術的藥液加熱裝置的說明如下：

如圖1所示，以往的藥液加熱裝置包括：收容藥液的腔室11；用于加熱所述藥液的加熱器13；以及用于冷卻由所述加熱器13加熱的藥液的冷卻裝置15。

但是，所述加熱器13和所述冷卻裝置15存在被藥液腐蝕的問題。

因此，所述加熱器13和所述冷卻裝置15的外側使用由PFA(Perfluoroalkoxy，全氟烷)或PTFE(Ploytetrafluoroethylene，聚四氟乙烯)等具有耐酸性的材質進行涂層，由此具有藥液的耐腐蝕性。

但是，如上所述，具備耐腐蝕性的材質與一般金屬材質相比，導熱率非常低，因此為了用通過藥液充分傳達熱，存在需要大面面積的所述加熱器13和所述冷卻裝置15的問題。

因此，所述加熱器13和所述冷卻裝置15的體積非效率地占據所述腔室11內部空間，從而產生收容在所述腔室11內部的藥液量減少的問題。

并且，因為所述加熱器13和所述冷卻裝置15體積的增加，不僅增加了制作所述加熱器13和所述冷卻裝置15的制作成本，還增加了使用于所述加熱器13和所述冷卻裝置15的電量，因此存在發生經濟損失的問題。

發明內容

(要解決的問題)

本發明要解決的問題在于提供如下的藥液溫度調節裝置、利用其的基板處理系統及基板處理方法：實時調節處理基板的藥液的溫度，并將藥液溫度調節裝置配置于外部，由此可減少儲液罐內部空間中不必要體積。

(解決問題的手段)