[發(fā)明專利]PSVA像素結(jié)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710488487.6 | 申請(qǐng)日: | 2017-06-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107085330B | 公開(公告)日: | 2020-04-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鄧竹明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1343 | 分類號(hào): | G02F1/1343 |
| 代理公司: | 深圳市德力知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44265 | 代理人: | 林才桂;劉巍 |
| 地址: | 518132 廣東省深*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | psva 像素 結(jié)構(gòu) | ||
本發(fā)明涉及一種PSVA像素結(jié)構(gòu)。該P(yáng)SVA像素結(jié)構(gòu)包括:上基板和與上基板相對(duì)設(shè)置的下基板,該上基板上設(shè)有公共電極,該下基板上設(shè)有鈍化層、設(shè)置于該鈍化層上的像素電極以及設(shè)置于該像素電極下方的金屬層;該鈍化層通過圖形化形成有凸起部、側(cè)壁以及溝槽底部,該像素電極僅覆蓋于鈍化層的凸起部以及溝槽底部。本發(fā)明的PSVA像素結(jié)構(gòu)中,鈍化層的溝槽側(cè)壁無像素電極,去除橫向電場,提高液晶效率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及液晶顯示器領(lǐng)域,尤其涉及一種PSVA像素結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)
主動(dòng)式薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-LCD)近年來得到了飛速的發(fā)展和廣泛的應(yīng)用。就目前主流市場上的TFT-LCD顯示面板而言,可分為三種類型,分別是扭曲向列(Twisted Nematic,TN)或超扭曲向列(Super Twisted Nematic,STN)型,平面轉(zhuǎn)換(In-Plane Switching,IPS)型、及垂直配向(Vertical Alignment,VA)型。其中VA型液晶顯示器相對(duì)其他種類的液晶顯示器具有極高的對(duì)比度,在大尺寸顯示方面具有非常廣的應(yīng)用。
隨著技術(shù)的發(fā)展,出現(xiàn)了相關(guān)的改進(jìn),聚合物穩(wěn)定垂直配向(polymer-stabilizedvertical alignment,PSVA)廣視角技術(shù)能夠使液晶顯示面板具有較快的響應(yīng)時(shí)間、及穿透率高等優(yōu)點(diǎn),其特點(diǎn)是在配向膜表面形成聚合物突起,從而使液晶分子具有預(yù)傾角。一般的PSVA像素結(jié)構(gòu)是在陣列基板上的用于溝道保護(hù)的鈍化層(Passivation)做完后,將沉積在其上的像素電極做圖案化處理。
如圖1A及圖1B所示,圖1A為傳統(tǒng)的PSVA像素立體示意圖,圖1B為傳統(tǒng)的PSVA像素下基板剖面示意圖,傳統(tǒng)的PSVA像素包括上基板10和與上基板10相對(duì)設(shè)置的下基板20,上基板10上設(shè)有平面型的公共電極11,下基板20上設(shè)有鈍化層21、設(shè)于鈍化層21上的像素電極22及設(shè)置于像素電極22下方的金屬層23,該像素電極22具有“米字型”圖案。
如圖2A,圖2B及圖2C所示,圖2A為現(xiàn)有一種新型PSVA像素立體示意圖,圖2B為現(xiàn)有一種新型PSVA像素下基板剖面示意圖,圖2C為現(xiàn)有一種新型PSVA像素的電場示意圖。該新型PSVA像素包括上基板210和與上基板210相對(duì)設(shè)置的下基板220,上基板210上設(shè)有平面型的公共電極211,下基板220上設(shè)有鈍化層221、設(shè)置于鈍化層221上的像素電極222以及設(shè)置于像素電極222下方的金屬層223。新型的PSVA像素通過對(duì)鈍化層221(Passivation layer,PV)進(jìn)行圖形化,凸起和凹陷交錯(cuò)出現(xiàn),形成魚骨形狀的四疇結(jié)構(gòu),ITO(氧化銦錫)像素電極222為整面覆蓋。相較于傳統(tǒng)的PSVA像素,新型PSVA像素具有高穿透率、對(duì)ITO像素電極222的線寬/間隔(Line/Space)不敏感等優(yōu)勢。
如圖2C所示,圖中帶箭頭線條表示上基板210和下基板220之間的電場,鈍化層221的溝槽形成后,ITO像素電極222為整面覆蓋;如上圖所示,溝槽側(cè)壁有ITO像素電極222,該ITO像素電極222與上基板210上的平面型的ITO公共電極211形成的電場有橫向分量——以帶箭頭曲線表示,該橫向分量將影響液晶的一致性排列,降低液晶效率。
因此,現(xiàn)有的新型PSVA像素結(jié)構(gòu)中,ITO像素電極在鈍化層凸起部、側(cè)壁、溝槽底部為整面連續(xù)覆蓋,側(cè)壁上的ITO像素電極與上基板的ITO公共電極形成橫向電場。這樣的優(yōu)點(diǎn)是制程簡單,缺點(diǎn)是液晶排列一致性差,液晶效率低,亟需改進(jìn)。
發(fā)明內(nèi)容
因此,本發(fā)明的目的在于提供一種PSVA像素結(jié)構(gòu),提高液晶效率。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種PSVA像素結(jié)構(gòu),包括:上基板和與上基板相對(duì)設(shè)置的下基板,該上基板上設(shè)有公共電極,該下基板上設(shè)有鈍化層、設(shè)置于該鈍化層上的像素電極以及設(shè)置于該像素電極下方的金屬層;該鈍化層通過圖形化形成有凸起部、側(cè)壁以及溝槽底部,該像素電極僅覆蓋于鈍化層的凸起部以及溝槽底部。
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G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
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