[發(fā)明專利]彩膜基板及其制備方法和顯示裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710488222.6
• 申請(qǐng)日: 2017-06-23
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107037630A
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-08-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李硯秋
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G02F1/1335
• 分類號(hào): G02F1/1335;G02B1/00;G02F1/13357
• 代理公司: 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11201
• 代理人: 趙天月

1.一種彩膜基板，其特征在于，包括彩色濾光片，所述彩色濾光片包括多個(gè)彩色濾光單元，每個(gè)所述彩色濾光單元包括多個(gè)子彩色濾光片，所述多個(gè)子彩色濾光片分別允許不同顏色的光通過(guò)，且每個(gè)所述子彩色濾光片包括光子晶體和設(shè)置在所述光子晶體中的光致發(fā)光材料，所述光致發(fā)光材料與所述子彩色濾光片顏色相對(duì)應(yīng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，每個(gè)所述子彩色濾光中設(shè)置有介孔材料，且所述光致發(fā)光材料負(fù)載在所述介孔材料上。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述介孔材料為介孔二氧化硅。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述光致發(fā)光材料包括CsPbX，其中X為鹵素。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的彩膜基板，其特征在于，所述子彩色濾光片中任意兩點(diǎn)之間的距離不大于8納米。

6.一種顯示裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的彩膜基板。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示裝置，其特征在于，進(jìn)一步包括陣列基板，所述陣列基板與所述彩膜基板相對(duì)設(shè)置，且所述陣列基板上靠近所述彩膜基板的一側(cè)設(shè)置有反射層。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示裝置，其特征在于，所述反射層為半反射層。

9.一種制備彩膜基板的方法，其特征在于，包括形成彩色濾光片的步驟，且所述形成彩色濾光片的步驟包括：

形成光子晶體層，所述光子晶體層包括多個(gè)光子晶體單元，每個(gè)所述光子晶體單元包括多個(gè)子光子晶體層，所述多個(gè)光子晶體層分別允許不同顏色的光通過(guò)；

對(duì)所述子光子晶體層進(jìn)行刻蝕，在所述子光子晶體層中形成凹槽；

在所述凹槽中設(shè)置光致發(fā)光材料，所述光致發(fā)光材料與所述子光子晶體層顏色相對(duì)應(yīng)。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，在所述凹槽中設(shè)置光致發(fā)光材料之前，預(yù)先將所述光致發(fā)光材料負(fù)載到介孔材料上。