[發明專利]一種基于原子干涉的量子傾斜儀

有效

• 申請號: 201710481059.0
• 申請日: 2017-06-22
• 公開（公告）號: CN107152925B
• 公開（公告）日: 2019-11-12
• 發明（設計）人: 胡忠坤;周敏康;段小春;徐文杰;趙苗苗;張柯
• 申請（專利權）人: 華中科技大學
• 主分類號: G01C9/00
• 分類號: G01C9/00
• 代理公司: 華中科技大學專利中心 42201
• 代理人: 廖盈春;曹葆青

1.一種基于原子干涉的量子傾斜儀，其特征在于，包括：原子制備模塊，Raman原子干涉模塊和原子探測模塊；

所述原子制備模塊用于產生干涉測量所需要的原子；

所述Raman原子干涉模塊包括：第一原子干涉單元和第一光脈沖序列產生單元；所述第一原子干涉單元用于提供原子干涉區，所述第一光脈沖序列產生單元用于提供π/2-π-π/2光脈沖序列；

所述原子探測模塊用于探測干涉完成后不同內態的原子；

所述第一原子干涉單元包括：用于在干涉過程中實現光脈沖對射配置并提供π/2脈沖的干涉區域的第一單元，以及用于在干涉過程中實現光脈沖對射配置并提供π脈沖的干涉區域的第二單元；

所述第一單元包括：兩個相對同軸設置的第一干涉窗口(201)和第二干涉窗口(202)，第一反射鏡(204)，設置在所述第二干涉窗口(202)與所述第一反射鏡(204)之間的第一1/4波片；

工作時，由第一光脈沖序列產生單元產生的第一π/2脈沖(203)從第一干涉窗口(201)射入，穿過第二干涉窗口(202)和第一1/4波片，再通過第一反射鏡(204)反射使得光束原路返回，以達到光脈沖對射配置，實現干涉過程中的π/2脈沖；

所述第二單元包括：兩個相對同軸設置的第三干涉窗口(213)和第四干涉窗口(214)，第二反射鏡(216)，設置在所述第四干涉窗口(214)與所述第二反射鏡(216)之間的第二1/4波片；

工作時，由第一光脈沖序列產生單元產生的第一π脈沖(215)從第三干涉窗口(213)射入，穿過第四干涉窗口(214)和第二1/4波片，通過第二反射鏡(216)反射使得光束原路返回，以達到光脈沖對射配置，實現干涉過程中的π脈沖；

第二原子干涉單元包括：用于在干涉過程中實現光脈沖對射配置并提供π/2脈沖的干涉區域的第三單元，以及用于在干涉過程中實現光脈沖對射配置并提供π脈沖的干涉區域的第四單元；

所述第三單元包括：兩個相對同軸設置的第五干涉窗口(207)和第六干涉窗口(208)，第三反射鏡(210)，設置在所述第六干涉窗口(208)與所述第三反射鏡(210)之間的第三1/4波片；

工作時，由第二光脈沖序列產生單元產生的第二π/2脈沖從第五干涉窗口(207)射入，穿過第六干涉窗口(208)和第三1/4波片，通過第三反射鏡(210)反射使得光束原路返回，以達到光脈沖對射配置，實現干涉過程中的π/2脈沖；

所述第四單元包括：兩個相對同軸設置的第七干涉窗口(218)和第八干涉窗口(219)，第四反射鏡(221)，設置在所述第八干涉窗口(219)與所述第四反射鏡(221)之間的第四1/4波片；

工作時，由第二光脈沖序列產生單元產生的第二π脈沖從第七干涉窗口(218)射入，穿過第八干涉窗口(219)和第四1/4波片，通過第四反射鏡(221)反射使得光束原路返回，以達到光脈沖對射配置，實現干涉過程中的π脈沖。