[發明專利]一種雕刻標本及其制作方法在審
| 申請號： | 201710470427.1 | 申請日： | 2017-06-20 |
| 公開（公告）號： | CN107369362A | 公開（公告）日： | 2017-11-21 |
| 發明（設計）人： | 鄭斯竹;鄧艷鳳 | 申請（專利權）人： | 蘇州市外來有害生物防控技術中心 |
| 主分類號： | G09B23/00 | 分類號： | G09B23/00;G09B23/36 |
| 代理公司： | 南京申云知識產權代理事務所(普通合伙)32274 | 代理人： | 邱興天 |
| 地址： | 215000 江蘇省蘇州*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 雕刻 標本 及其 制作方法 | ||
1.一種雕刻標本，其特征在于：包括透明材料制成的基板，在所述基板上雕刻有標本的形態特征放大圖。
2.根據權利要求1所述的雕刻標本，其特征在于：所述基板為有機玻璃或有機樹脂。
3.根據權利要求1所述的雕刻標本，其特征在于：所述標本包括線蟲動物和微生物。
4.根據權利要求3所述的雕刻標本，其特征在于：所述微生物為以病原性真菌、病毒、細菌為代表的植物病原微生物。
5.根據權利要求3所述的雕刻標本，其特征在于：所述線蟲動物為植物病原線蟲。
6.根據權利要求1所述的雕刻標本，其特征在于：所述形態特征放大圖雕刻在基板表面或內部。
7.一種制備權利要求1所述的雕刻標本的方法，其特征在于，包括以下步驟：
(1)將待制作成標本的特征原圖通過高倍率顯微鏡進行拍攝；
(2)將顯微鏡拍攝的圖片通過專業畫圖軟件繪制成供雕刻使用的三維圖譜；
(3))采用CNC數控雕刻技術將三維圖譜雕刻于基板表面，或采用激光內雕機將圖譜雕刻于基板內部，本實施例將繪制好的三維圖譜輸入雕刻機輸出系統，雕刻深度≤15mm。
8.根據權利要求7所述的制備雕刻標本的方法，其特征在于：步驟(1)中，選用ZEISS品牌的Imager.A2型顯微鏡，最小放大倍數為10倍，最高放大倍數800倍；拍攝真菌孢子、菌絲、子實體及線蟲等植物病原微生物的重要形態特征均在400倍、800倍下觀察拍攝獲得。
9.根據權利要求7所述的制備雕刻標本的方法，其特征在于：步驟(2)中，三維圖譜是采用專業內雕模型構建軟件將顯微鏡及各微觀成像設備拍攝的平面照片構建成可供三維雕刻使用的三維圖譜。
10.根據權利要求7所述的制備雕刻標本的方法，其特征在于：步驟(3)中，采用激光內雕技術，將繪制好的三維圖譜輸入雕刻機輸出系統，采用激光內雕技術，將平面或立體的圖案雕刻在基板的內部，或者采用CNC數控雕刻技術將三維圖譜雕刻于基板表面，雕刻深度≤15mm。
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