[發(fā)明專利]光配向裝置及其去除光配向雜質的組件和方法

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• 申請日: 2017-06-19
• 公開（公告）號: CN107121845A
• 公開（公告）日: 2017-09-01
• 發(fā)明（設計）人: 宋彥君
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: G02F1/1337
• 分類號: G02F1/1337
• 代理公司: 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙)44280
• 代理人: 鐘子敏

技術領域

本發(fā)明涉及顯示技術領域，具體涉及一種光配向裝置及其去除光配向雜質的組件和方法。

背景技術

在LCD(Liquid Crystal Display,液晶顯示裝置)的制造過程中需要對液晶進行配向制程，控制液晶分子在LCD中的初始排列方式，從而精確控制液晶分子在LCD顯示過程中的排列方式，以實現顯示效果。現有的配向制程一般采用光配向方法。結合圖1所示，光源11發(fā)出的光經過濾光片12和偏光片13后變?yōu)榫€偏極紫外光，線偏極紫外光照射到具有感光劑的配向膜14時，配向膜14的部分分子鏈斷裂，從而產生小分子雜質15。這些雜質15會在LCD顯示時形成異物型亮點，影響LCD的顯示品質。為了避免這些雜質15進入LCD內部，現有技術一般在偏光片13和配向膜14之間設置一透光玻璃16，但是隨著透光玻璃16上聚集的雜質15越來越多，透光玻璃16的光穿透率越來越低，勢必會影響光配向品質。

發(fā)明內容

鑒于此，本發(fā)明提供一種光配向裝置及其去除光配向雜質的組件和方法，能夠去除光配向過程中配向膜產生的雜質，確保光配向品質。

本發(fā)明一實施例的去除光配向雜質的組件，包括除塵機構，所述除塵機構的內部設置有輸氣管道，輸氣管道的一端間隔設置于配向膜的上方，除塵機構用于在負壓差的作用下將光配向雜質吸入輸氣管道內。

本發(fā)明一實施例的光配向裝置，包括上述去除光配向雜質的組件。

本發(fā)明一實施例的去除光配向雜質的方法，包括：

將除塵機構設置于配向膜的上方，使得除塵機構內部設置的輸氣管道的一端間隔設置于配向膜的上方；

除塵機構在負壓差的作用下將光配向雜質吸入輸氣管道內。

有益效果：本發(fā)明通過除塵機構將光配向雜質吸入輸氣管道內，能夠去除光配向過程中配向膜產生的雜質，并且避免這些雜質在線偏極紫外光的照射方向上聚集，從而確保光配向品質。

附圖說明

圖1是現有技術的光配向裝置的結構剖示圖；

圖2是本發(fā)明一實施例的光配向裝置的結構剖示圖；

圖3是本發(fā)明另一實施例的光配向裝置的結構剖示圖；

圖4是本發(fā)明去除光配向雜質的方法一實施例的流程示意圖。

具體實施方式

下面將結合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明所提供的各個示例性的實施例的技術方案進行清楚、完整地描述。在不沖突的情況下，下述各個實施例及其技術特征可以相互組合。

請參閱圖2，為本發(fā)明一實施例的光配向裝置。所述光配向裝置20可以包括反光板21、光源22、濾光片23、偏光片24、配向膜25以及去除光配向雜質的組件26。

光源22可用于發(fā)出紫外光。

反光板21用于對遠離配向膜25的紫外光進行反射，使得紫外光經過反射后照向配向膜25，提高紫外光利用率。

濾光片23設置于光源22的下方，用于調整紫外光的波長，使得預定波長(例如200～500納米)的紫外光進入偏光片24。

偏光片24設置于濾光片23的下方，偏光片24用于獲取線偏極紫外光，以基于IPS(In-Plane Switching,橫向電場效應顯示)技術和FFS(Fringe Field Switching,邊緣場開關)技術的光配向制程為例，偏光片24僅允許平行于偏光片24的紫外光通過。

配向膜25包括高分子聚合物，例如PI(Polyimide,聚酰亞胺)，高分子聚合物被線偏極紫外光照射之后會形成長鍵分子，使得配向膜25具有異方性，液晶分子會沿著長鍵分子方向排列，從而實現光配向。

所述去除光配向雜質的組件(下文簡稱組件)26可以包括除塵機構261和集塵機構262。除塵機構261的內部設置有兩端開口的輸氣管道，輸氣管道的一端間隔設置于配向膜25的上方。集塵機構262的內部設置有存儲空間，該存儲空間與輸氣管道的另一端連通。

在光配向制程中，光源22發(fā)出的紫外光經過濾光片23和偏光片24之后變?yōu)榫€偏極紫外光，線偏極紫外光照射到具有感光劑的配向膜25之后，配向膜25中的部分分子鏈斷裂，從而產生小分子雜質，這些小分子雜質可稱為光配向雜質27。此時，除塵機構261在負壓差的作用下將光配向雜質27吸入輸氣管道內，而后，光配向雜質27從輸氣管道的另一端進入集塵機構262的存儲空間。