[發(fā)明專(zhuān)利]高光區(qū)域的消除方法、裝置及終端

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710458366.7
• 申請(qǐng)日: 2017-06-16
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107330866B
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-03-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 曾元清
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: OPPO廣東移動(dòng)通信有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G06T5/00
• 分類(lèi)號(hào): G06T5/00
• 代理公司: 北京恒博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11528
• 代理人: 范勝祥

1.一種高光區(qū)域的消除方法，其特征在于，包括以下步驟：

對(duì)多個(gè)待消除高光區(qū)域中的每個(gè)待消除高光區(qū)域確定其質(zhì)心；

確定所述每個(gè)待消除高光區(qū)域中的像素點(diǎn)相對(duì)于所述其質(zhì)心的目標(biāo)半徑，得到分別與所述每個(gè)待消除高光區(qū)域?qū)?yīng)的目標(biāo)半徑；

基于與所述目標(biāo)半徑對(duì)應(yīng)尺寸的濾波器，對(duì)所述目標(biāo)半徑所屬高光區(qū)域進(jìn)行消除處理；其中，根據(jù)目標(biāo)半徑計(jì)算與其對(duì)應(yīng)的濾波器尺寸包括：針對(duì)每個(gè)目標(biāo)半徑，統(tǒng)計(jì)其所屬高光區(qū)域中全部像素點(diǎn)數(shù)目A；統(tǒng)計(jì)該高光區(qū)域所屬面部膚色區(qū)域中全部像素點(diǎn)數(shù)目B；確定出像素點(diǎn)數(shù)目A和像素點(diǎn)數(shù)目B的比例值C，將C與預(yù)設(shè)閾值作對(duì)比，得到對(duì)比結(jié)果；在比對(duì)結(jié)果為比例值C大于預(yù)設(shè)閾值時(shí)，對(duì)應(yīng)的濾波器的尺寸為目標(biāo)半徑的1.5倍-2倍；在比對(duì)結(jié)果為比例值C小于或者等于預(yù)設(shè)閾值時(shí)，對(duì)應(yīng)的濾波器的尺寸為目標(biāo)半徑的3-4倍；

其中，在所述對(duì)多個(gè)待消除高光區(qū)域中的每個(gè)待消除高光區(qū)域確定其質(zhì)心之前，還包括：

從待消除高光區(qū)域的圖片中提取多個(gè)高光區(qū)域；

對(duì)所述多個(gè)高光區(qū)域做腐蝕膨脹運(yùn)算處理，并根據(jù)處理結(jié)果確定出所述多個(gè)待消除高光區(qū)域；

其中，在對(duì)多個(gè)待消除高光區(qū)域中的每個(gè)待消除高光區(qū)域確定其質(zhì)心之前，對(duì)圖片提取其中的面部區(qū)域后，基于面部區(qū)域的色調(diào)、飽和度、亮度特征，提取出該面部區(qū)域的多個(gè)高光區(qū)域。

2.如權(quán)利要求1所述的高光區(qū)域的消除方法，其特征在于，所述基于與所述目標(biāo)半徑對(duì)應(yīng)尺寸的濾波器，對(duì)所述目標(biāo)半徑所屬高光區(qū)域進(jìn)行消除處理，包括：

基于預(yù)設(shè)對(duì)應(yīng)關(guān)系表確定與所述目標(biāo)半徑對(duì)應(yīng)的尺寸；

根據(jù)所述對(duì)應(yīng)的尺寸對(duì)濾波器的尺寸進(jìn)行配置，以根據(jù)配置后的濾波器對(duì)所述目標(biāo)半徑所屬高光區(qū)域進(jìn)行消除處理。

3.如權(quán)利要求2所述的高光區(qū)域的消除方法，其特征在于，在所述對(duì)多個(gè)待消除高光區(qū)域中的每個(gè)待消除高光區(qū)域確定其質(zhì)心之前，還包括：

根據(jù)多個(gè)目標(biāo)半徑及與其對(duì)應(yīng)的濾波器的尺寸生成所述預(yù)設(shè)對(duì)應(yīng)關(guān)系表。

4.如權(quán)利要求1所述的高光區(qū)域的消除方法，其特征在于，所述確定所述每個(gè)待消除高光區(qū)域中的像素點(diǎn)相對(duì)于所述其質(zhì)心的目標(biāo)半徑，包括：

將所述每個(gè)待消除高光區(qū)域中的全部像素點(diǎn)相對(duì)于所述其質(zhì)心的多個(gè)半徑的平均值，作為所述目標(biāo)半徑。

5.一種高光區(qū)域的消除裝置，其特征在于，包括：

質(zhì)心確定模塊，用于對(duì)多個(gè)待消除高光區(qū)域中的每個(gè)待消除高光區(qū)域確定其質(zhì)心；

目標(biāo)半徑確定模塊，用于確定所述每個(gè)待消除高光區(qū)域中的像素點(diǎn)相對(duì)于所述其質(zhì)心的目標(biāo)半徑，得到分別與所述每個(gè)待消除高光區(qū)域?qū)?yīng)的目標(biāo)半徑；

消除模塊，用于基于與所述目標(biāo)半徑對(duì)應(yīng)尺寸的濾波器，對(duì)所述目標(biāo)半徑所屬高光區(qū)域進(jìn)行消除處理；其中，根據(jù)目標(biāo)半徑計(jì)算與其對(duì)應(yīng)的濾波器尺寸包括：針對(duì)每個(gè)目標(biāo)半徑，統(tǒng)計(jì)其所屬高光區(qū)域中全部像素點(diǎn)數(shù)目A；統(tǒng)計(jì)該高光區(qū)域所屬面部膚色區(qū)域中全部像素點(diǎn)數(shù)目B；確定出像素點(diǎn)數(shù)目A和像素點(diǎn)數(shù)目B的比例值C，將C與預(yù)設(shè)閾值作對(duì)比，得到對(duì)比結(jié)果；在比對(duì)結(jié)果為比例值C大于預(yù)設(shè)閾值時(shí)，對(duì)應(yīng)的濾波器的尺寸為目標(biāo)半徑的1.5倍-2倍；在比對(duì)結(jié)果為比例值C小于或者等于預(yù)設(shè)閾值時(shí)，對(duì)應(yīng)的濾波器的尺寸為目標(biāo)半徑的3-4倍；

其中，提取模塊，用于從待消除高光區(qū)域的圖片中提取多個(gè)高光區(qū)域；

運(yùn)算處理模塊，用于對(duì)所述多個(gè)高光區(qū)域做腐蝕膨脹運(yùn)算處理，并根據(jù)處理結(jié)果確定出所述多個(gè)待消除高光區(qū)域；

其中，提取模塊，用于對(duì)圖片提取其中的面部區(qū)域后，基于面部區(qū)域的色調(diào)、飽和度、亮度特征，提取出該面部區(qū)域的多個(gè)高光區(qū)域。

6.如權(quán)利要求5所述的高光區(qū)域的消除裝置，其特征在于，所述消除模塊，包括：

確定子模塊，用于基于預(yù)設(shè)對(duì)應(yīng)關(guān)系表確定與所述目標(biāo)半徑對(duì)應(yīng)的尺寸；

消除子模塊，用于根據(jù)所述對(duì)應(yīng)的尺寸對(duì)濾波器的尺寸進(jìn)行配置，以根據(jù)配置后的濾波器對(duì)所述目標(biāo)半徑所屬高光區(qū)域進(jìn)行消除處理。

7.如權(quán)利要求6所述的高光區(qū)域的消除裝置，其特征在于，還包括：

生成模塊，用于根據(jù)多個(gè)目標(biāo)半徑及與其對(duì)應(yīng)的濾波器的尺寸生成所述預(yù)設(shè)對(duì)應(yīng)關(guān)系表。