[發明專利]分析方法以及分析裝置

在審

• 申請號: 201710395631.1
• 申請日: 2017-05-31
• 公開（公告）號: CN107449770A
• 公開（公告）日: 2017-12-08
• 發明（設計）人: 友田小百合;喜多川信宏;陸建銀;實原弘亮
• 申請（專利權）人: 希森美康株式會社
• 主分類號: G01N21/76
• 分類號: G01N21/76;G01N21/64
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所11038
• 代理人: 程晨

技術領域

有檢測來自試樣的光來進行分析的分析裝置(例如參照專利文獻1)。另外，有通過磁鐵使磁性粒子移動來進行檢體分析的分析裝置(例如參照專利文獻2)。

背景技術

專利文獻1公開一種分析裝置，具備：傳感器構造，作為配置發光試樣的收容部件；檢測器，檢測來自發光試樣的光；以及反射體，使從傳感器構造向與檢測器相反的一側的光向檢測器側反射。反射體被配置成覆蓋傳感器構造。在上述專利文獻1中，從傳感器構造向與檢測器相反的一側的光也能夠通過反射體反射而由檢測器檢測，所以能夠提高檢測靈敏度。

另外，上述專利文獻2公開一種分析裝置，具備使磁性粒子在盤內移動的磁鐵部。

【現有技術文獻】

【專利文獻】

專利文獻1：日本特開2006-343335號公報

專利文獻2：美國專利申請公開第2013/0206701號說明書

發明內容

在專利文獻1中公開的技術是使從傳感器構造向外放出的光通過反射體反射并使光聚光到檢測器的技術。然而，有時從傳感器構造向外放出的光不充分，即使被反射體反射，也無法通過檢測器進行充分的檢測。

特別地，在利用專利文獻2中公開的技術的、在移送使磁性粒子和被檢物質結合而得到的物質，移送通過使標識抗體對被檢物質反應而生成的免疫復合體，對由免疫復合體構成的試樣加上基質從而促使發光的處理中，有時發生如下那樣的不好的狀態：試樣未合適地移送到檢測通過加上基質而發出的光的槽，混入氣泡，發生磁性粒子的凝集。在這樣的情況下，光被不充分地放出。

本發明是面向能夠在提高來自試樣的光的檢測靈敏度的同時，確認成為光檢測的對象的試樣是否為合適的狀態的發明。

本發明的第一方案的分析方法是檢測并分析來自被調制為根據被檢物質的量發光的試樣的光的分析方法，對收容所述試樣的收容部件進行攝像，將反射部的狀態切換為使來自所述試樣的光向光檢測部反射的狀態，通過光檢測部檢測來自所述試樣的光，根據通過所述光檢測部所檢測出的光量，輸出試樣的分析結果。

本發明的第二方案的分析裝置具備：保持部，用于保持收容被調制為根據被檢物質的量發光的試樣的收容部件；光檢測部，用于檢測來自在通過所述保持部所保持的所述收容部件中所收容的試樣的光；攝像部，用于對所述收容部件進行攝像；以及反射部，構成為能夠切換使從所述試樣向所述攝像部的光向所述光檢測部反射的第一狀態、和不妨礙從所述收容部件向所述攝像部的光的第二狀態。

能夠在提高來自試樣的光的檢測靈敏度的同時，確認成為光檢測的對象的試樣是否為合適的狀態。

附圖說明

圖1是表示反射部為反射狀態的情況(A)和非反射狀態的情況(B)的分析裝置的概略圖。

圖2是表示收容部件的結構例的圖(A)以及(B)。

圖3是表示使用盒的分析裝置的結構例的示意圖。

圖4是表示盒的結構例的俯視圖。

圖5是表示分析裝置的結構例的內部正面圖。

圖6是表示分析裝置的結構例的內部側面圖。

圖7是表示分析裝置的結構例的內部俯視圖。

圖8是表示反射部以及光調整部的結構例的立體圖。

圖9是表示反射部以及光調整部的結構例的側面圖。

圖10是用于說明反射狀態以及第一光透射狀態的、反射部以及光調整部的示意性的俯視圖以及側剖面圖。

圖11是用于說明反射狀態以及第二光透射狀態的、反射部以及光調整部的示意性的俯視圖以及側剖面圖。

圖12是用于說明非反射狀態以及光切斷狀態的、反射部以及光調整部的示意性的俯視圖以及側剖面圖。

圖13是用于說明分析裝置的測定動作的流程圖。

圖14是用于說明分析裝置的光檢測處理的流程圖。

圖15是表示分析裝置的保持部的其它結構例(A)以及(B)的示意圖。

圖16是表示分析裝置的反射部以及光調整部的其它結構例(A)～(D)的示意圖。

圖17是表示使分析裝置的反射部以及光調整部移動的結構的其它結構例(A)以及(B)的示意圖。

圖18是用于說明基于攝像圖像的送液錯誤判定(A)、氣泡混入錯誤判定(B)、磁性粒子的凝集錯誤判定(C)的示意圖。

(符號說明)