[發(fā)明專利]一種彩葉桂花霧插方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710391900.7 | 申請日： | 2017-05-27 |
| 公開（公告）號： | CN107173149A | 公開（公告）日： | 2017-09-19 |
| 發(fā)明（設計）人： | 周余華;周琴;巫建新;王紅梅;裴新國;席映雪 | 申請（專利權）人： | 江蘇農(nóng)林職業(yè)技術學院 |
| 主分類號： | A01G17/00 | 分類號： | A01G17/00;A01G9/10 |
| 代理公司： | 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙)32204 | 代理人： | 許云花,許丹丹 |
| 地址： | 212499 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 桂花 方法 | ||
1.一種彩葉桂花霧插方法，其特征在于包括如下步驟：
(1)設置霧插池，在該霧插池上覆蓋塑料薄膜的密閉弓棚；
(2)選用1年生枝條，采集5～8cm的插穗條，該插穗條的下端位于葉痕之處，穗條上具有1～2個飽滿芽；
(3)扦插時將上述插穗條逐根插入種植盤的基質(zhì)中，每格1根；
(4)采用含有殺菌劑的水浸透插壤，定期噴霧，直到扦插生根。
2.根據(jù)權利要求1所述的彩葉桂花霧插方法，其特征在于：步驟(1)中，所述霧插池為圓形池，其直徑為2～2.5m，高度為25～50cm。
3.根據(jù)權利要求1所述的彩葉桂花霧插方法，其特征在于：步驟(3)中，所述基質(zhì)為珍珠巖和泥炭的混合基質(zhì)或者泥炭土基質(zhì)。
4.根據(jù)權利要求3所述的彩葉桂花霧插方法，其特征在于：所述珍珠巖和泥炭的體積比為1:2～2:3。
5.根據(jù)權利要求1所述的彩葉桂花霧插方法，其特征在于：步驟(2)中，所述插穗條于6月或10月采集。
6.根據(jù)權利要求1所述的彩葉桂花霧插方法，其特征在于：步驟(2)中，所述插穗條的下端剪切成45°斜口，切口平滑。
7.根據(jù)權利要求1所述的彩葉桂花霧插方法，其特征在于：步驟(3)中，所述插穗條的插入深度為該穗條長度的1/2～2/3。
8.根據(jù)權利要求1所述的彩葉桂花霧插方法，其特征在于：步驟(4)中，所述殺菌劑為噁霉靈，其濃度為3000～4000倍液。
9.根據(jù)權利要求1所述的彩葉桂花霧插方法，其特征在于：步驟(3)中，所述扦插時，先采用生長調(diào)節(jié)劑對穗條進行處理。
10.根據(jù)權利要求9所述的彩葉桂花霧插方法，其特征在于：所述生長調(diào)節(jié)劑為IBA或NAA，濃度為1000mg/L。
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