[發明專利]顯示裝置的制造方法

有效

• 申請號: 201710391404.1
• 申請日: 2017-05-27
• 公開（公告）號: CN107665957B
• 公開（公告）日: 2019-07-09
• 發明（設計）人: 松澤興明
• 申請（專利權）人: 株式會社日本顯示器
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L27/32
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 邸萬杰

1.一種顯示裝置的制造方法，其特征在于，包括下述步驟：

在具有由多個顯示元件排列而成的顯示區域的基板的包含所述顯示區域的面，形成第一絕緣膜；

將所述第一絕緣膜的與所述基板相反側的第一面的大致整面暴露于有機蒸氣中，使有機分子吸附于所述第一絕緣膜的所述第一面的大致整面；

在所述第一絕緣膜的所述第一面，將吸附于第一區域的所述有機分子除去，其中所述第一區域被劃定為包含所述顯示區域且不到所述第一絕緣膜的端部的內側區域；

在所述第一絕緣膜的被除去了所述有機分子的所述第一區域形成第二絕緣膜；

除去吸附于所述第一絕緣膜的所述第一區域外的所述有機分子；和

在所述第一絕緣膜和所述第二絕緣膜上，形成與所述第一絕緣膜在所述第二絕緣膜的外側接觸的第三絕緣膜。

2.如權利要求1所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于：

在所述第一絕緣膜上配置具有使所述第一區域露出的開口部的掩模來進行等離子體處理，除去所述有機分子。

3.如權利要求2所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于：

所述等離子體處理利用含氧的氣體的輝光放電等離子體來進行處理。

4.如權利要求1所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于：

所述有機分子是選自酞酸酯類、低分子硅氧烷、磷酸酯類和羥基甲苯二丁酯中的一種或多種有機材料的分子。

5.如權利要求4所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于：

所述有機分子使所述第一絕緣膜的第一面的撥液性變高。

6.一種顯示裝置的制造方法，其特征在于，包括下述步驟：

在具有由多個顯示元件排列而成的顯示區域的基板的包含所述顯示區域的面，形成第一絕緣膜；

將所述第一絕緣膜的與所述基板相反側的第一面中的第一區域被遮擋了的所述第一絕緣膜暴露于有機蒸氣中，使有機分子吸附于所述第一區域被遮擋了的所述第一絕緣膜，其中所述第一區域被劃定為包含所述顯示區域且不到所述第一絕緣膜的端部的內側區域；

在所述第一絕緣膜的沒有吸附所述有機分子的所述第一區域形成第二絕緣膜；

除去吸附于所述第一絕緣膜的所述第一區域外的所述有機分子；和

在所述第一絕緣膜和所述第二絕緣膜上，形成與所述第一絕緣膜在所述第二絕緣膜的外側接觸的第三絕緣膜。

7.如權利要求6所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于：

所述有機分子是選自酞酸酯類、低分子硅氧烷、磷酸酯類和羥基甲苯二丁酯中的一種或多種有機材料的分子。

8.如權利要求7所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于：

所述有機分子使所述第一絕緣膜的第一面的撥液性變高。

9.一種顯示裝置的制造方法，其特征在于，包括下述步驟：

在具有由多個顯示元件排列而成的顯示區域的基板的包含所述顯示區域的面，形成第一絕緣膜；

在所述第一絕緣膜的與所述基板相反側的第一面，在第一區域以外的部分被遮擋了的所述第一絕緣膜形成密接膜，其中所述第一區域被劃定為包含所述顯示區域且不到所述第一絕緣膜的端部的內側區域；

在所述第一絕緣膜的形成有所述密接膜的所述第一區域形成第二絕緣膜；和

在所述第一絕緣膜和所述第二絕緣膜上，形成與所述第一絕緣膜在所述第二絕緣膜的外側接觸的第三絕緣膜。

10.如權利要求9所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于：

所述密接膜形成在所述第一區域，不形成在比第一區域靠外側的區域。

11.如權利要求10所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于：

所述密接膜是氧化硅或非晶硅。

12.如權利要求11所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于：

所述密接膜使所述第二絕緣膜的密接性變高。