[發明專利]一種TiO2/GQDs/NiS異質結光陽極及其制備方法有效
| 申請號: | 201710385073.0 | 申請日: | 2017-05-26 |
| 公開(公告)號: | CN107230551B | 公開(公告)日: | 2019-10-11 |
| 發明(設計)人: | 劉勇平;楊之書;呂慧丹;耿鵬;林劍飛;米喜紅;林佩怡 | 申請(專利權)人: | 桂林理工大學 |
| 主分類號: | H01G9/04 | 分類號: | H01G9/04;H01G9/042 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 541004 廣西壯*** | 國省代碼: | 廣西;45 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 制備 復合光陽極 復合膜 量子點 石墨烯 浸漬 退火 光電轉換效率 復合光電極 光催化活性 陽極氧化法 沉淀反應 連續離子 納米顆粒 氮氣管 電解液 氟化銨 光電流 光陽極 乙二醇 異質結 爐中 吸附 鈦片 沉積 | ||
本發明公開了一種TiO2/GQDs/NiS復合光陽極及其制備方法,解決了TiO2光電轉換效率較低的問題。本發明以鈦片為基體,含有石墨烯量子點的乙二醇、氟化銨水溶液為電解液,通過陽極氧化法,制備出含有石墨烯量子點(GQDs)的TiO2復合膜。再通過連續離子層吸附?沉淀反應將NiS納米顆粒沉積到TiO2表面,然后在氮氣管式爐中,退火20min得到TiO2/GQDs/NiS復合光陽極。TiO2/GQDs/NiS(浸漬8次)復合膜光電流密度是TiO2納米管的2倍。本發明方法簡便、易于操作,所制備的TiO2/GQDs/NiS復合光電極具有很高的光催化活性及穩定性。
技術領域
本發明所屬技術領域為光催化、光電化學材料技術領域,特別涉及二氧化鈦異質結光催化劑開發及制備方法。
背景技術
TiO2納米管陣列(TNA)由于其高的比表面積,優良的電荷傳輸性能、無毒、催化活性高、化學穩定性和低成本等優點而受到研究者們的青睞。TNA在氣體傳感器、太陽能電池、生物催化劑、生物醫學植入材料和鋰離子電池等方面的應用是很吸引人的。然而TiO2僅能吸收500nm以下波長的太陽光,無法充分利用太陽光的能源;并且光生電子空穴對易于復合,導致光電轉換效率較低,在實際應用中仍有許多地方有待改進和完善。因此對TiO2光敏半導體通過改性形成異質結,以提高其光電化學性能。對光催化活性具有重要意義。
GQDs具有很強的sp2雜化碳結構,因此其穩定性非常好,在高強度紫外光條件下也不發生化學變化。而且石墨烯量子點是非金屬的碳材料結構,穩定性好、成本低、污染小、在各方面都有很大的應用前景。然而,GQDs的研究還處于早期階段,這種材料的潛能還沒有完全探索出來,因此針對GQDs獨特的物理化學性質,將GQDs與TiO2光敏半導體材料進行復合改性。
硫化鎳是一種窄帶隙的直接半導體,吸光系數較高,被應用于太陽能電池、光電導元件、光電設備的光敏薄膜、光敏涂料和紅外探測器等。特別地,NiS因其帶隙比較窄而具有非常寬的吸收光譜,使其成為一種高效的半導體光催化劑材料。所以本專利中將NiS作為助催化劑與TiO2構建異質結催化劑,以提高TiO2的光電化學性能及穩定性。
發明內容
本發明的目的是提供一種可見光催化劑納米TiO2/GQDs/NiS光陽極及其制備方法,該方法操作簡便、易于操作,所制備的TiO2納米管復合膜具有很高的光催化活性。
具體步驟為:
(1)陽極氧化合成TiO2納米管,將鈦片分別在丙酮、乙醇、蒸餾水中各超聲15分鐘。電解液為0.3wt%的氟化銨和2wt%的蒸餾水以及100mL的乙二醇,向電解液中加入5~50mL的石墨烯量子點,設置直流穩壓電源輸出電壓為 20~100V,陽極氧化時間進行0.5~5h后結束。最后將陽極氧化試片用蒸餾水沖洗,冷風吹干,得到包含GQDs的TiO2納米管陣列膜。
(2)將步驟(1)中制備的光陽極浸入0.03M的乙醇化的鎳鹽溶液中 0.5~5min,然后用乙醇沖洗掉樣品表面過量松散的吸附離子,再將光電極浸入 0.03M的硫源和甲醇水溶液中2~6min,硫源:甲醇體積比為1:1。最后將樣品試片用蒸餾水沖洗,冷風吹干,保存待處理。
(3)將步驟(2)中的樣品試片置于管式爐中,將管式爐中抽成真空,再充入氮氣,待管式爐中充滿氮氣后,以5℃/min的升溫速率升溫至300~600℃,退火2h,待其降溫后取出,得到鈦箔表面沉積TiO2/GQDs/NiS復合膜光陽極。
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