[發明專利]一種二元插層介孔g-C3N4@ATP復合光催化劑的制備方法及用途

有效

• 申請號: 201710368979.1
• 申請日: 2017-05-23
• 公開（公告）號: CN107185575B
• 公開（公告）日: 2019-01-08
• 發明（設計）人: 朱志;高乃玲;唐旭;于洋;逯子揚;霍鵬偉;閆永勝;李春香
• 申請（專利權）人: 江蘇大學
• 主分類號: B01J27/24
• 分類號: B01J27/24;C02F1/30;C02F101/38;C02F101/34
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1.一種二元插層介孔g-C₃N₄@ATP復合光催化劑的制備方法，其特征在于，步驟如下：

步驟1、將凹凸棒加入到鹽酸中，密封磁力攪拌至分散均勻，超聲后靜置，離心分離得到固體樣品，真空干燥，即得到改性凹凸棒；

步驟2、將改性凹凸棒分散到乙醇中，再加入尿素，密封磁力攪拌使溶質溶解，收集固體產物，真空干燥；再將固體產物在馬弗爐中煅燒，待馬弗爐溫度冷卻至室溫后，將坩堝取出并將坩堝內的固體樣品研磨成粉末，隨后將樣品放入烘箱中干燥，得到凹凸棒修飾的g-C₃N₄；即二元插層介孔g-C₃N₄@ATP復合光催化劑；

步驟2中，所述煅燒溫度為500℃，并在該恒溫下保持2h，其中升溫速率為1.0~10℃/min。

2.根據權利要求1所述的一種二元插層介孔g-C₃N₄@ATP復合光催化劑的制備方法，其特征在于，步驟1中，所使用的凹凸棒與鹽酸的用量比為10~20g：100~200mL，所述鹽酸的濃度為1 mol L^-1。

3.根據權利要求1所述的一種二元插層介孔g-C₃N₄@ATP復合光催化劑的制備方法，其特征在于，步驟2中，所使用的改性凹凸棒、乙醇、尿素的用量比為0.005~1g：20mL：5g。

4.權利要求1~3任意一項所述的一種二元插層介孔g-C₃N₄@ATP復合光催化劑的制備方法制備的二元插層介孔g-C₃N₄@ATP復合光催化劑的用途，其特征在于，所述的方法制備的二元插層介孔g-C₃N₄@ATP復合光催化劑用于光催化降解四環素。