[發明專利]制備銀納米線透明電極的選擇性去除不均勻短線的方法有效
| 申請號： | 201710363194.5 | 申請日： | 2017-05-22 |
| 公開（公告）號： | CN107199114B | 公開（公告）日： | 2019-04-19 |
| 發明（設計）人： | 林鐵松;何鵬;黃釗 | 申請（專利權）人： | 哈爾濱工業大學 |
| 主分類號： | B03B5/44 | 分類號： | B03B5/44;B22F1/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 哈爾濱市陽光惠遠知識產權代理有限公司 23211 | 代理人： | 張金珠 |
| 地址： | 150001 黑龍*** | 國省代碼： | 黑龍江;23 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 制備 納米 透明 電極 選擇性 去除 不均勻 短線 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于制備銀納米線透明電極的選擇性去除不均勻短線的方法，其特征在于該方法是由下述步驟完成的：
將銀納米線分散液滴涂在基底上，常溫下靜置至銀納米線分散液在基底上的潤濕面積尚未收縮，使用溶劑清洗基底；然后常溫下自然干燥，即完成選擇性去除部分很短的銀納米線的操作。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于所述銀納米線分散液是將采用多元醇法制備的銀納米線母液經過提純后分散得到的，分散劑為無水乙醇或水。
3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于分散劑為無水乙醇，靜置時間為20s～25s。
4.根據權利要求2所述的方法，其特征在于分散劑為水，靜置時間為30min～60min。
5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于清洗用溶劑為無水乙醇或水。
6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于清洗的方法為浸沒溶劑中，或者沖洗。
7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于所述的基底為柔性且透明基底。
8.根據權利要求1所述的方法，其特征在于去除短線的長度小于或等于10μm。
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