[發明專利]OLED器件制造方法、OLED器件及顯示面板

有效

• 申請號: 201710358717.7
• 申請日: 2017-05-19
• 公開（公告）號: CN107104129B
• 公開（公告）日: 2021-01-26
• 發明（設計）人: 王丹;李娜
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: H01L27/32
• 分類號: H01L27/32;H01L51/56
• 代理公司: 北京律智知識產權代理有限公司 11438
• 代理人: 王輝;闞梓瑄

1.一種OLED器件制造方法，其特征在于，包括：

在襯底上形成第一電極層；

在所述第一電極層上形成像素界定層，所述像素界定層具有與各個子像素單元的發光區域一一對應的多個開口；

對所述像素界定層遠離所述第一電極層的表面進行粗糙化處理；

形成覆蓋所述像素界定層和所述開口的空穴注入層，其中，根據空穴注入層的厚度對所述像素界定層遠離所述第一電極層的表面進行粗糙化處理，使所述像素界定層具有能夠阻止所述空穴注入層的載流子的定向傳輸的表面粗糙度；以及

在所述空穴注入層對應于所述開口的區域依次形成空穴傳輸層、發光層、電子傳輸層、電子注入層以及第二電極層。

2.根據權利要求1所述的OLED器件制造方法，其特征在于，對所述像素界定層遠離所述第一電極層的表面進行粗糙化處理包括：

通過灰化處理、等離子體處理或者濺射薄層金屬處理來對所述像素界定層遠離所述第一電極層的表面進行粗糙化處理。

3.根據權利要求2所述的OLED器件制造方法，其特征在于，通過灰化處理對所述像素界定層進行表面處理包括：

通過光致刻蝕劑對與所述開口對應的所述第一電極進行保護；

通過灰化處理對所述像素界定層進行表面處理；以及

在所述灰化處理完成之后除去所述光致刻蝕劑。

4.根據權利要求1所述的OLED器件制造方法，其特征在于，所述第一電極層為氧化銦錫/銀/氧化銦錫復合層。

5.一種OLED器件，其特征在于，包括：

襯底；

第一電極層，設置在所述襯底上；

像素界定層，設置在所述第一電極層上，所述像素界定層具有與各個子像素單元的發光區域一一對應的多個開口，并且所述像素界定層遠離所述第一電極層的表面具有預定表面粗糙度；

空穴注入層，設置在所述像素界定層和所述開口上，其中，根據空穴注入層的厚度對所述像素界定層遠離所述第一電極層的表面形成所述預定表面粗糙度，使所述像素界定層具有能夠阻止所述空穴注入層的載流子的定向傳輸的表面粗糙度；以及

依次設置在所述空穴注入層上對應于所述開口的區域的空穴傳輸層、發光層、電子傳輸層、電子注入層以及第二電極層。

6.根據權利要求5所述的OLED器件，其特征在于，所述空穴注入層的厚度的大小范圍為50nm至100nm，以及所述像素界定層的所述預定表面粗糙度的大小范圍為50nm至100nm。

7.根據權利要求5所述的OLED器件，其特征在于，所述第一電極層為氧化銦錫/銀/氧化銦錫復合層。

8.一種顯示面板，其特征在于，包括根據權利要求5至7中任一項所述的OLED器件。