[發明專利]基于磁控共同濺射技術在不銹鋼基材上制備的裝飾性涂層

有效

• 申請號: 201710343167.1
• 申請日: 2017-05-16
• 公開（公告）號: CN107177824B
• 公開（公告）日: 2020-01-03
• 發明（設計）人: 馬丁·森斯;眭凌杰;巫仕才;賴納·霍夫曼;孫偉明;楊興磊;張燕聰
• 申請（專利權）人: 福建新越金屬材料科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/16;C23C14/06;C23C14/10
• 代理公司: 35213 泉州市博一專利事務所(普通合伙)
• 代理人: 方傳榜

1.基于磁控共同濺射技術在不銹鋼基材上制備的裝飾性涂層，其特征在于：該裝飾性涂層的膜系包含多個化合物涂層，每個單一化合物涂層的涂層厚度在5nm到300nm之間變化，每個化合物涂層化學式(Si:Cr)N_X，(Si:Cr)為硅Si和鉻Cr之間的比例，指數X在Nx中被描述為與氮N的反應系數，該反應系數X在X=0和X=1之間變化，這里X=0指0%的氮反應以及X=1指100%的氮反應或符合標定化學計量的混合物，每個化合物涂層需要與下方化合物涂層和/或上方化合物涂層有不同的成分比例，硅與鉻(Si:Cr)的混合比例不同或反應系數X不同或兩者都不同；在包含n個單一化合物涂層的膜系子集下方鍍有一個附著層，并且該附著層是由金屬鉻Cr組成；在包含n個單一化合物涂層的膜系子集上方鍍有一個介質層。

2.如權利要求1所述的基于磁控共同濺射技術在不銹鋼基材上制備的裝飾性涂層，其特征在于：所述附著層AL的涂層厚度在20nm到30nm之間。

3.如權利要求1所述的基于磁控共同濺射技術在不銹鋼基材上制備的裝飾性涂層，其特征在于：所述介質層DL的涂層厚度在5nm到300nm之間變化。