[發(fā)明專利]OLED器件制造方法、OLED器件及顯示面板在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710338338.1 | 申請(qǐng)日: | 2017-05-15 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107146808A | 公開(kāi)(公告)日: | 2017-09-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李曉虎 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/32 | 分類號(hào): | H01L27/32;H01L51/50;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京律智知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11438 | 代理人: | 王輝,闞梓瑄 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | oled 器件 制造 方法 顯示 面板 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本公開(kāi)涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,具體而言,涉及一種OLED器件制造方法、OLED器件以及顯示面板。
背景技術(shù)
近年來(lái),OLED(Organic Light-Emitting Diode,有機(jī)發(fā)光二極管)顯示技術(shù)作為一種新型的平板顯示技術(shù)逐漸受到更多的關(guān)注。由于OLED顯示面板具有主動(dòng)發(fā)光、發(fā)光亮度高、分辨率高、寬視角、響應(yīng)速度快、低能耗以及可柔性化等特點(diǎn),成為有可能代替液晶顯示的下一代顯示技術(shù)。
OLED顯示面板包括陣列分布的不同顏色(如RGB三色)的子像素,在對(duì)OLED顯示面板中的各OLED器件進(jìn)行蒸鍍時(shí),空穴注入層(HIL)和空穴傳輸層(HTL)往往是通過(guò)掩膜完成蒸鍍的,而目前蒸鍍所用的空穴注入材料中載流子的橫向傳輸速率較高,且不同顏色子像素間的點(diǎn)亮電壓具有較大差異即壓差,從而易于造成載流子的定向傳輸,使其他顏色的子像素同時(shí)點(diǎn)亮,這樣在高分辨率顯示屏中,極易造成RGB三色的串?dāng)_。
因此,需要提供一種能夠解決上述問(wèn)題中的一個(gè)或多個(gè)問(wèn)題的OLED器件制造方法以及OLED器件。
需要說(shuō)明的是,在上述背景技術(shù)部分公開(kāi)的信息僅用于加強(qiáng)對(duì)本公開(kāi)的背景的理解,因此可以包括不構(gòu)成對(duì)本領(lǐng)域普通技術(shù)人員已知的現(xiàn)有技術(shù)的信息。
發(fā)明內(nèi)容
本公開(kāi)的目的在于提供一種OELD器件制造方法、OLED器件以及顯示面板,進(jìn)而至少在一定程度上克服由于相關(guān)技術(shù)的限制和缺陷而導(dǎo)致的一個(gè)或者多個(gè)問(wèn)題。
根據(jù)本公開(kāi)的一個(gè)方面,提供了一種OLED器件制造方法,包括:
在襯底上形成第一電極層;
在所述第一電極層上與像素界定層對(duì)應(yīng)的位置處形成一層或多層無(wú)機(jī)膜;
通過(guò)刻蝕方式調(diào)整所述一層或多層無(wú)機(jī)膜的刻蝕角,使得在形成第一有機(jī)層時(shí)所述第一有機(jī)層在所述刻蝕角處發(fā)生斷裂;
在所述無(wú)機(jī)膜上形成所述像素界定層;
在所述第一電極層、所述無(wú)機(jī)膜以及所述像素界定層上形成所述第一有機(jī)層;以及
在所述第一有機(jī)層上依次形成發(fā)光層、第二有機(jī)層以及第二電極層。
在本公開(kāi)的一種示例性實(shí)施例中,所述無(wú)機(jī)膜為氮化硅膜或氧化硅膜。
在本公開(kāi)的一種示例性實(shí)施例中,使得在形成第一有機(jī)層時(shí)所述第一有機(jī)層在所述刻蝕角處發(fā)生斷裂包括:
在所述第一有機(jī)層包括空穴注入層和空穴傳輸層時(shí),使得在形成所述空穴注入層時(shí)所述空穴注入層在所述刻蝕角處發(fā)生斷裂。
在本公開(kāi)的一種示例性實(shí)施例中,所述OLED器件制造方法還包括:
對(duì)所述像素界定層進(jìn)行曝光以形成多個(gè)開(kāi)口和多個(gè)像素間隔體。
在本公開(kāi)的一種示例性實(shí)施例中,所述刻蝕角的角度為90度或負(fù)角度。
根據(jù)本公開(kāi)的一個(gè)方面,提供一種OLED器件,包括:
襯底;
第一電極層,設(shè)置在所述襯底上;
一層或多層無(wú)機(jī)膜,設(shè)置在所述第一電極層上,所述無(wú)機(jī)膜具有預(yù)設(shè)刻蝕角;
像素界定層,設(shè)置在所述一層或多層無(wú)機(jī)膜上;
第一有機(jī)層,設(shè)置在所述第一電極層、所述無(wú)機(jī)膜以及所述像素界定層上,并且所述第一有機(jī)層在所述無(wú)機(jī)膜的所述預(yù)設(shè)刻蝕角處發(fā)生斷裂;
依次設(shè)置在所述第一有機(jī)層上的發(fā)光層、第二有機(jī)層以及第二電極。
在本公開(kāi)的一種示例性實(shí)施例中,所述無(wú)機(jī)膜為氮化硅膜或氧化硅膜。
在本公開(kāi)的一種示例性實(shí)施例中,所述預(yù)設(shè)刻蝕角的角度為90度或負(fù)角度。
在本公開(kāi)的一種示例性實(shí)施例中,所述第一電極層為氧化銦錫/銀/氧化銦錫復(fù)合層。
根據(jù)本公開(kāi)的一個(gè)方面,提供一種顯示面板,包括根據(jù)上述任意一項(xiàng)所述的OLED器件。
根據(jù)本公開(kāi)的示例實(shí)施例的OLED器件制造方法、OLED器件以及顯示面板,一方面,在像素界定層下增加一層或多層無(wú)機(jī)膜,使第一有機(jī)層在無(wú)機(jī)膜的刻蝕角處發(fā)生斷裂,能夠避免第一有機(jī)層的載流子在像素間的橫向傳輸,減少了RGB像素間的串?dāng)_情況;另一方面,由于增加無(wú)機(jī)膜層是在蒸鍍流程開(kāi)始前進(jìn)行的,能夠減少對(duì)蒸鍍流程的干擾。
應(yīng)當(dāng)理解的是,以上的一般描述和后文的細(xì)節(jié)描述僅是示例性和解釋性的,并不能限制本公開(kāi)。
附圖說(shuō)明
此處的附圖被并入說(shuō)明書中并構(gòu)成本說(shuō)明書的一部分,示出了符合本公開(kāi)的實(shí)施例,并與說(shuō)明書一起用于解釋本公開(kāi)的原理。顯而易見(jiàn)地,下面描述中的附圖僅僅是本公開(kāi)的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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