[發(fā)明專(zhuān)利]一種γ輻射場(chǎng)劑量檢定用調(diào)控架

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710331820.2
• 申請(qǐng)日: 2017-05-12
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN106932813A
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-07-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊小艷;呂己祿;卓仁鴻;成晶;丁大杰;文德智;鄭慧;魏番惠
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 中國(guó)工程物理研究院核物理與化學(xué)研究所
• 主分類(lèi)號(hào): G01T7/00
• 分類(lèi)號(hào): G01T7/00
• 代理公司: 中國(guó)工程物理研究院專(zhuān)利中心51210
• 代理人: 翟長(zhǎng)明,韓志英

1.一種γ輻射場(chǎng)劑量檢定用調(diào)控架，其特征在于:所述的調(diào)控架包括平衡嵌卡控制端（1）、水平固定板（2）、側(cè)方位固定板（3）、滑動(dòng)凹槽Ⅰ（41）、滑動(dòng)凹槽Ⅱ（42）、磁吸嵌卡板（5）、腳架(6)，其中，所述的平衡嵌卡控制端(1)含有嵌卡棒(11)、嵌卡臺(tái)(12)、氣泡水平儀(13)、調(diào)控座(14)、手柄(15)，所述的腳架(6)含有支架Ⅰ、支架Ⅱ、支架Ⅲ；

其連接關(guān)系是，所述的平衡嵌卡控制端（1）頂部設(shè)置有嵌卡棒（11），嵌卡棒(11)的下方依次設(shè)置有嵌卡臺(tái)（12）、調(diào)控座（14），所述的嵌卡臺(tái)（12）上部通過(guò)螺鈕與嵌卡棒（11）連接，嵌卡臺(tái)（12）下部通過(guò)螺鈕與調(diào)控座（14）連接；所述的氣泡水平儀（13）位于嵌卡臺(tái)（12）的下方，并嵌入調(diào)控座（14）一側(cè)，手柄（15）固定連接在調(diào)控座（14）另一側(cè)；

所述的水平固定板Ⅰ（2）位于調(diào)控座（14）底部，并通過(guò)調(diào)控座（14）底部的吸磁鐵固定，水平固定板Ⅰ（2）的側(cè)邊對(duì)應(yīng)設(shè)置有側(cè)方位固定板Ⅰ（3）、側(cè)方位固定板Ⅱ，水平固定板Ⅰ（2）與側(cè)方位固定板Ⅰ（3）、側(cè)方位固定板Ⅱ分別固定連接，水平固定板Ⅰ（2）的下方設(shè)置有滑動(dòng)凹槽Ⅰ（41），水平固定板Ⅰ（2）與滑動(dòng)凹槽Ⅰ（41）滑動(dòng)連接；

所述的滑動(dòng)凹槽Ⅰ（41）的下方設(shè)置有水平固定板Ⅱ（21），滑動(dòng)凹槽Ⅰ（41）與水平固定板Ⅱ（21）滑動(dòng)連接，水平固定板Ⅱ（21）的側(cè)邊對(duì)應(yīng)設(shè)置有側(cè)方位固定板Ⅲ（31）、側(cè)方位固定板Ⅳ，水平固定板Ⅱ（21）與側(cè)方位固定板Ⅲ、側(cè)方位固定板Ⅳ分別固定連接；水平固定板Ⅱ（21）的下方設(shè)置有滑動(dòng)凹槽Ⅱ（42），水平固定板Ⅱ（21）與滑動(dòng)凹槽Ⅱ（42）滑動(dòng)連接；

磁吸嵌卡板（5）固定在滑動(dòng)凹槽Ⅱ（42）底部，腳架（6）的頂部通過(guò)磁吸嵌卡板（5）與滑動(dòng)凹槽Ⅱ（42）相連接；

所述的腳架（6）上端沿中心軸線(xiàn)設(shè)置有一圓盤(pán)，在圓盤(pán)上均勻活動(dòng)連接有支架Ⅰ、支架Ⅱ、支架Ⅲ，其中，支架Ⅰ包括兩根滑桿Ⅰ（61）、兩根滑桿Ⅱ（62）、一根滑桿Ⅲ（63）；所述的支架Ⅰ的中心設(shè)置有滑桿Ⅲ（63），兩根滑桿Ⅱ（62）分別設(shè)置在滑桿Ⅲ（63）兩側(cè)，兩根滑桿Ⅰ（61）分別設(shè)置在兩根滑桿Ⅱ（62）兩側(cè)；三角支撐帶（65）通過(guò)安裝在支架Ⅰ上的活動(dòng)鈕扣(64)為支撐點(diǎn)設(shè)置在腳架(6)內(nèi)側(cè)，支架Ⅰ通過(guò)三角支撐帶（65）、活動(dòng)鈕扣(64)分別支架Ⅰ、支架Ⅱ相連。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的γ輻射場(chǎng)劑量檢定用調(diào)控架，其特征在于: 所述的支架Ⅱ、支架Ⅲ與支架Ⅰ的結(jié)構(gòu)相同。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的γ輻射場(chǎng)劑量檢定用調(diào)控架，其特征在于: 所述的滑動(dòng)凹槽Ⅰ（41）、滑動(dòng)凹槽Ⅱ（42）的結(jié)構(gòu)相同。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的γ輻射場(chǎng)劑量檢定用調(diào)控架，其特征在于：所述的磁吸嵌卡板（5）與腳架（6）頂部相對(duì)應(yīng)設(shè)置。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的γ輻射場(chǎng)劑量檢定用調(diào)控架，其特征在于: 所述的水平固定板（2）、側(cè)方位固定板（3）的結(jié)構(gòu)相同。