[發明專利]顯示基板及其制造方法、顯示裝置

有效

• 申請號: 201710331274.2
• 申請日: 2017-05-11
• 公開（公告）號: CN107154381B
• 公開（公告）日: 2020-03-13
• 發明（設計）人: 王玲;蓋翠麗;張保俠;李全虎;林奕呈
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: H01L21/77
• 分類號: H01L21/77;H01L27/32
• 代理公司: 北京三高永信知識產權代理有限責任公司 11138
• 代理人: 滕一斌

1.一種顯示基板，其特征在于，所述顯示基板包括：

襯底基板，設置在所述襯底基板上的遮擋層，以及設置在所述遮擋層遠離所述襯底基板一側的頂柵薄膜晶體管；

所述遮擋層包括交疊設置的多個子遮擋層，任意兩個相鄰的子遮擋層由不同的非金屬材料形成，且每個所述子遮擋層在所述襯底基板上的正投影與所述顯示基板中任一像素單元的開口區域不重疊；

所述顯示基板還包括：設置在所述頂柵薄膜晶體管遠離所述襯底基板一側的電致發光單元；

每個所述子遮擋層在所述襯底基板上的正投影與所述電致發光單元中像素定義層在所述襯底基板上的正投影重合，且所述遮擋層的形狀與所述像素定義層的形狀相同。

2.根據權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，

每個所述子遮擋層遠離所述襯底基板且與其他子遮擋層接觸的一面設置有溝壑。

3.根據權利要求1或2所述的顯示基板，其特征在于，

所述多個子遮擋層包括至少一個第一子遮擋層和至少一個第二子遮擋層；

每個所述第一子遮擋層由絕緣材料形成，每個所述第二子遮擋層由半導體材料形成。

4.根據權利要求3所述的顯示基板，其特征在于，

每個所述第二子遮擋層的厚度大于每個所述第一子遮擋層的厚度，且所述遮擋層中與所述頂柵薄膜晶體管接觸的為第二子遮擋層。

5.根據權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述頂柵薄膜晶體管包括：有源層、柵極和源漏極，所述遮擋層的覆蓋面積大于所述有源層。

6.一種顯示基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：

提供一襯底基板；

采用非金屬材料在所述襯底基板上形成多個子遮擋層，所述多個子遮擋層形成為遮擋層，其中，任意兩個相鄰的子遮擋層采用不同的非金屬材料形成，且每個所述子遮擋層在所述襯底基板上的正投影與所述顯示基板中任一像素單元的開口區域不重疊；

在形成有所述遮擋層的襯底基板上形成頂柵薄膜晶體管；

所述方法還包括：

在形成有所述頂柵薄膜晶體管的所述襯底基板上形成電致發光單元；

每個所述子遮擋層與所述電致發光單元中的像素定義層采用同一個掩膜板形成，且形成的所述遮擋層的形狀與形成的所述像素定義層的形狀相同。

7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，

每個所述子遮擋層遠離所述襯底基板且與其他子遮擋層接觸的一面形成有溝壑。

8.根據權利要求6或7所述的方法，其特征在于，所述采用非金屬材料在所述襯底基板上形成多個子遮擋層，包括：

采用絕緣材料形成至少一個第一子遮擋層；

采用半導體材料形成至少一個第二子遮擋層；

其中，所述第二子遮擋層與所述第一子遮擋層交替形成。

9.一種顯示裝置，其特征在于，所述裝置包括：

如權利要求1至5任一所述的顯示基板。