[發(fā)明專(zhuān)利]一種基于S含量梯度變化的類(lèi)硫硒化鎘納米帶的波長(zhǎng)選擇性光探測(cè)器及其構(gòu)建方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710330199.8 | 申請(qǐng)日: | 2017-05-11 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107316908A | 公開(kāi)(公告)日: | 2017-11-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王笑;朱小莉;藍(lán)文安;潘安練;劉建哲;徐良 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 黃山博藍(lán)特光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L31/0296 | 分類(lèi)號(hào): | H01L31/0296;H01L31/10;B82Y30/00;H01L31/18 |
| 代理公司: | 長(zhǎng)沙市融智專(zhuān)利事務(wù)所43114 | 代理人: | 顏勇 |
| 地址: | 245000 安徽*** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 含量 梯度 變化 類(lèi)硫硒化鎘 納米 波長(zhǎng) 選擇性 探測(cè)器 及其 構(gòu)建 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種基于S含量梯度變化的類(lèi)硫硒化鎘納米帶的波長(zhǎng)選擇性光探測(cè)器及其構(gòu)建方法,屬于低維半導(dǎo)體材料光電應(yīng)用技術(shù)領(lǐng)域。
技術(shù)背景
一維半導(dǎo)體納米結(jié)構(gòu)是構(gòu)建集成器件最基本的結(jié)構(gòu)單元,以其優(yōu)異的物理化學(xué)性質(zhì)在新型納米光電器件研究中有著重要的應(yīng)用價(jià)值和廣闊的前景。具有波長(zhǎng)選擇性的納米帶探測(cè)器,可以作為片上的信息通信集成的重要單元。通常半導(dǎo)體光探測(cè)器的波長(zhǎng)響應(yīng)范圍主要決定于半導(dǎo)體材料的帶隙。研究人員通過(guò)實(shí)驗(yàn)手段可以實(shí)現(xiàn)合金半導(dǎo)體納米帶帶隙得連續(xù)可調(diào),為實(shí)現(xiàn)不同波長(zhǎng)響應(yīng)的探測(cè)提供合適的材料基礎(chǔ)。然而大部分的納米帶探測(cè)器工作都是基于單一組分合金納米帶,其實(shí)現(xiàn)不同波長(zhǎng)范圍的范圍通常需要多個(gè)器件。如何在單個(gè)納米帶器件實(shí)現(xiàn)波長(zhǎng)選擇性能,還存在挑戰(zhàn)。
軸向組分遞變CdSxSe1-x納米帶,因?yàn)槠錆u變的的能帶結(jié)構(gòu),具有特殊的光電輸運(yùn)特性。光在納米帶中的傳輸損耗和能量變化會(huì)依賴(lài)其傳輸方向,基于這一點(diǎn),可以實(shí)現(xiàn)單根納米帶的光整流和光柵功能。而基于軸向組分遞變CdSxSe1-x納米帶帶隙的在可見(jiàn)波段的寬范圍變化,可以實(shí)現(xiàn)高效率的光伏器件以及寬波段的光探測(cè)器。然而,由于高質(zhì)量的CdSxSe1-x納米帶合成的困難和單納米帶上多波長(zhǎng)探測(cè)研究的缺乏,單納米帶的波長(zhǎng)選擇性光探測(cè)器實(shí)現(xiàn)有很大困難。
發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足,本發(fā)明提供一種基于S含量梯度變化的類(lèi)硫硒化鎘納米帶的波長(zhǎng)選擇性光探測(cè)器及其構(gòu)建方法。
本發(fā)明一種基于S含量梯度變化的類(lèi)硫硒化鎘納米帶的波長(zhǎng)選擇性光探測(cè)器,所述選擇性光探測(cè)器由n個(gè)電極和類(lèi)硫硒化鎘納米帶構(gòu)成;所述n大于等于 3優(yōu)選為3-13;類(lèi)硫硒化鎘納米帶的化學(xué)式為CdSxSe1-x;所述類(lèi)硫硒化鎘納米帶上,S的含量呈梯度變化;所述x小于1。
本發(fā)明一種基于S含量梯度變化的類(lèi)硫硒化鎘納米帶的波長(zhǎng)選擇性光探測(cè)器,所述類(lèi)硫硒化鎘納米帶的長(zhǎng)度為50-100μm,寬度為2-6μm,厚度為100-200 nm。
本發(fā)明一種基于S含量梯度變化的類(lèi)硫硒化鎘納米帶的波長(zhǎng)選擇性光探測(cè)器,相鄰兩個(gè)電極之間的距離為8-25μm、優(yōu)選為8-20μm。
本發(fā)明一種基于S含量梯度變化的類(lèi)硫硒化鎘納米帶的波長(zhǎng)選擇性光探測(cè)器的構(gòu)建方法,包括下述步驟:
步驟一S含量梯度變化的類(lèi)硫硒化鎘納米帶的制備
以帶有金膜的硅片為襯底,先往反應(yīng)設(shè)備中通入含CdS的氣體并控制襯底的溫度為500-550℃,在襯底上沉積得到CdS納米帶;然后往反應(yīng)設(shè)備中通入混合氣體并控制襯底的溫度為500-550℃,在所得CdS納米帶的軸向繼續(xù)生長(zhǎng)化學(xué)式為CdSxSe1-x的納米帶;所述混合氣體中含有CdS氣體和CdSe氣體;所述化學(xué)式為CdSxSe1-x的納米帶中,S的含量沿納米帶的軸向呈梯度變化;
或
以帶有金膜的硅片為襯底,先往反應(yīng)設(shè)備中通入含CdSe的氣體并控制襯底的溫度為500-550℃,在襯底上沉積得到CdSe納米帶;然后往反應(yīng)設(shè)備中通入混合氣體并控制襯底的溫度為500-550℃,在所得CdSe納米帶的軸向繼續(xù)生長(zhǎng)化學(xué)式為CdSxSe1-x的納米帶;所述混合氣體中含有CdS氣體和CdSe氣體;所述化學(xué)式為CdSxSe1-x的納米帶中,S的含量沿納米帶的軸向呈梯度變化;
步驟二組裝
取一根步驟一所得化學(xué)式為CdSxSe1-x的納米帶放置于SiO2基底上,然后涂覆一層光刻膠;干燥、按設(shè)定尺寸曝光、按設(shè)定尺寸顯影;顯影后,熱蒸發(fā)60/20 nm Cr/Au薄膜,蒸發(fā)后,去膠、干燥;得到單根納米帶上的多電極器件,所述;多電極器件即為波長(zhǎng)選擇性光探測(cè)器;所述光刻膠為負(fù)膠。
作為優(yōu)選方案,本發(fā)明一種基于S含量梯度變化的類(lèi)硫硒化鎘納米帶的波長(zhǎng)選擇性光探測(cè)器的構(gòu)建方法,沉積時(shí),爐內(nèi)壓力為200-500Mbar、優(yōu)選為300mbar。
作為優(yōu)選方案,本發(fā)明一種基于S含量梯度變化的類(lèi)硫硒化鎘納米帶的波長(zhǎng)選擇性光探測(cè)器的構(gòu)建方法,沉積時(shí),保護(hù)氣體的流速為50-200sccm、優(yōu)選為 150sccm。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專(zhuān)門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專(zhuān)門(mén)適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過(guò)該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
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