[發明專利]一種利用真空紫外光清洗及活化材料表面的裝置在審
| 申請號: | 201710309002.2 | 申請日: | 2017-05-04 |
| 公開(公告)號: | CN107068598A | 公開(公告)日: | 2017-08-18 |
| 發明(設計)人: | 王晨曦;許繼開;劉艷南;田艷紅;馮智健;周詩承;李思;馬竟軒 | 申請(專利權)人: | 哈爾濱工業大學 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L21/02 |
| 代理公司: | 哈爾濱龍科專利代理有限公司23206 | 代理人: | 高媛 |
| 地址: | 150000 黑龍*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 利用 真空 紫外光 清洗 活化 材料 表面 裝置 | ||
1.一種利用真空紫外光清洗及活化材料表面的裝置,其特征在于:其組成包括密閉箱體(1)、氣閥一(1-1)、氣閥二(1-2)、氣閥三(1-3)、樣品取送窗門一(1-8)、樣品取送窗門二(1-7)、箱門(1-9)、工作臺(2)、真空紫外燈(3)、密閉加熱器(4)、真空泵(5)、水蒸氣發生裝置(6)、儲氣瓶(7)、純凈氣體流量控制器(8)及水蒸氣流量控制器(9);
所述的密封箱體(1)的右側壁上安裝有與密封箱體(1)內部相通的氣閥一(1-1)、氣閥二(1-2)及氣閥三(1-3),密封箱體(1)的前側壁上左右并排設有樣品取送窗口,位于左側的樣品取送窗口設為樣品取送窗口一,位于右側的樣品取送窗口設為樣品取送窗口二,所述的樣品取送窗口一處密封安裝有樣品取送窗門一(1-8),所述的樣品取送窗口二處密封安裝有樣品取送窗門二(1-7),所述的真空紫外燈(3)水平設置并通過燈架安裝在密閉箱體(1)內頂部,所述的真空紫外燈(3)下方設置有工作臺(2),所述的工作臺(2)通過支撐座與密閉箱體(1)內的底部固接;
所述的氣閥一(1-1)經純凈氣體流量控制器(8)與儲氣瓶(7)的出口連通,所述的氣閥二(1-2)經水蒸氣流量控制器(9)與水蒸氣發生裝置(6)的燒瓶(6-1)連通,所述的密閉加熱器(4)設有進氣口(4-1)和出氣口(4-2),所述的氣閥三(1-3)與密閉加熱器(4)的進氣口(4-1)連通,密閉加熱器(4)的出氣口(4-2)與真空泵(5)連通。
2.根據權利要求1所述的一種利用真空紫外光清洗及活化材料表面的裝置,其特征在于:所述的工作臺2為固定式工作臺或數控十字移動平臺。
3.根據權利要求1或2所述的一種利用真空紫外光清洗及活化材料表面的裝置,其特征在于:所述的水蒸氣發生裝置(6)包括燒瓶(6-1)和加熱器(6-2),所述的加熱器(6-2)設置在燒瓶(6-1)底部,加熱器(6-2)為電阻絲加熱器。
4.根據權利要求1或2所述的一種利用真空紫外光清洗及活化材料表面的裝置,其特征在于:所述的密閉加熱器(4)包括主殼體(4-3)、電熱網(4-4)、溫度控制器(4-5)和恒流直流電源(4-6),所述的電熱網(4-4)、溫度控制器(4-5)和恒流直流電源(4-6)依次串聯,所述的主殼體(4-3)側壁設有所述的進氣口(4-1)和出氣口(4-2),所述的電熱網(4-4)設置在主殼體(4-3)內部的四周。
5.根據權利要求1或2所述的一種利用真空紫外光清洗及活化材料表面的裝置,其特征在于:所述的利用真空紫外光清洗及活化材料表面的裝置還包括備用氣閥一(1-4)、備用氣閥二(1-5)及備用氣閥三(1-6);所述的密封箱體(1)的右側壁上安裝有與密封箱體(1)內部相通的備用氣閥一(1-4),所述的備用氣閥二(1-5)安裝在樣品取送門窗門二(1-7)上,所述的備用氣閥三(1-6)安裝在樣品取送窗門一(1-8)上,備用氣閥二(1-5)和備用氣閥三(1-6)均與密封箱體(1)內部相通。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





