[發(fā)明專(zhuān)利]一種高精度極小尺寸自支撐鈹薄膜的制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710307426.5
• 申請(qǐng)日: 2017-05-04
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107142449B
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-05-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李?lèi)?/a>;吳衛(wèi)東;羅炳池;羅江山;張吉強(qiáng);譚秀蘭;李文琦;金雷;何玉丹
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 中國(guó)工程物理研究院激光聚變研究中心
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/02
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/02;C23C14/16;C23C14/24;B24B1/00
• 代理公司: 綿陽(yáng)市博圖知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 51235
• 代理人: 鄧昉

1.一種高精度極小尺寸自支撐鈹薄膜的制備方法，其特征在于，依次包括以下步驟：

(a) 在銅塊體表面加工出高精度的臺(tái)階；

(b) 精細(xì)研磨銅臺(tái)階端面粗糙度至納米量級(jí)；

(c) 在銅臺(tái)階端面蒸發(fā)沉積鋁薄膜；

(d) 在鋁薄膜表面沉積鈹薄膜；

(e) 采用NaOH溶液反應(yīng)去除鋁薄膜襯底，得到高精度極小尺寸自支撐鈹薄膜。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述高精度極小尺寸自支撐鈹薄膜的制備方法，其特征在于：步驟(a)所述的銅塊體為純銅材料，所述銅塊體的尺寸介于10mm×10mm×10mm~15mm×15mm×15mm，高精度的臺(tái)階采用精密數(shù)控加工，臺(tái)階高度1mm~2mm，臺(tái)階外形尺寸小于1mm，所述臺(tái)階精度控制在1μm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述高精度極小尺寸自支撐鈹薄膜的制備方法，其特征在于：步驟(b)所述的精細(xì)研磨采用高效精密拋光機(jī)進(jìn)行。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述高精度極小尺寸自支撐鈹薄膜的制備方法，其特征在于：所述的精細(xì)研磨方法為：拋光機(jī)的上下拋光盤(pán)分別以不同旋轉(zhuǎn)方向反向旋轉(zhuǎn)，研磨液采用顆粒為微納量級(jí)的金剛石拋光液或氧化物拋光液，研磨后的臺(tái)階端面粗糙度數(shù)值用探針式輪廓儀表征，其值小于50nm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述高精度極小尺寸自支撐鈹薄膜的制備方法，其特征在于：步驟(c)所述的鋁薄膜采用熱蒸發(fā)制備，鋁薄膜厚度0.5μm~1μm，表面粗糙度Ra值不超過(guò)50nm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述高精度極小尺寸自支撐鈹薄膜的制備方法，其特征在于：步驟(d)所述的鈹薄膜采用磁控濺射沉積，鈹薄膜厚度為1μm~10μm，鈹薄膜表面粗糙度Ra值不超過(guò)100nm。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述高精度極小尺寸自支撐鈹薄膜的制備方法，其特征在于：步驟(e)所述的NaOH溶液，其濃度值為3wt.‰~6wt.‰。