[發明專利]一種等離子體發生裝置用電暈電極及其制作方法

有效

• 申請號: 201710305195.4
• 申請日: 2017-05-03
• 公開（公告）號: CN108811288B
• 公開（公告）日: 2023-10-03
• 發明（設計）人: 周志華;釋延豹
• 申請（專利權）人: 深圳天基權健康科技集團股份有限公司
• 主分類號: H05H1/24
• 分類號: H05H1/24;C23F4/00;C23C18/44;C23C18/18
• 代理公司: 北京京萬通知識產權代理有限公司 11440
• 代理人: 萬學堂

1.一種等離子體發生裝置用電暈電極的制作方法，其特征在于，包括如下步驟：

(1)取一塊厚度為1～2mm的鈦板，加工成一定尺寸的片狀鈦板；

(2)將步驟(1)的片狀鈦板置于盛有4wt％-7wt％NaOH溶液的超聲清洗槽中進行超聲清洗，清洗結束后先用去離子水進行沖洗，然后用潔凈的壓縮氣體將鈦板吹干；

(3)在步驟(2)得到的鈦板表面涂覆一層負性光刻膠，之后將掩模版置于光刻膠上，并進行光刻膠的曝光；

(4)洗去步驟(3)鈦板表面未曝光的光刻膠，并利用等離子刻蝕技術在鈦板表面刻蝕出所需的圖案，所述刻蝕的刻蝕深度為50～300μm；

(5)洗除鈦板表面的光刻膠，然后將刻蝕后的鈦板置于超聲清洗槽中進行超聲清洗40～60min，清洗結束后先用去離子水進行沖洗，然后用潔凈的壓縮氣體將鈦板吹干；

(6)對鈦板表面曝光的位置進行沖壓，使圓柱端面壓出尖端形狀；

(7)將沖壓后的鈦板先用體積比為3：1的HNO₃-HF混合溶液進行浸洗以除去鈦基表面的氧化層和其它的金屬雜質，然后用體積比為3:1的HCl-H₂SO₄溶液對鈦板表面進行刻蝕以使其表面粗糙化并使鈦板表面沉淀相對穩定的TiH₂膜，之后采用PdCl₂溶液浸泡鈦板一段時間以使鈦板活化，活化之后用去離子水清洗，用壓縮氣體將鈦板吹干；

(8)將干燥的鈦板放入鍍槽，采用含鉑鍍液在鈦板表面鍍一層鉑，然后將鍍膜后的鈦板材清洗干凈，用壓縮氣體吹干，之后置于400～600℃的氣氛里熱分解60～120min，最后冷卻即得所述電暈電極。

2.根據權利要求1所述電暈電極的制作方法，其特征在于，所述步驟(2)中超聲清洗的時間為30～40min，溫度控制在35℃～60℃。

3.根據權利要求1所述電暈電極的制作方法，其特征在于，所述步驟(7)中采用HNO₃-HF混合溶液對鈦板進行浸洗的時間為30～60min，溫度控制在35～70℃。

4.根據權利要求1所述電暈電極的制作方法，其特征在于，所述步驟(7)中采用HCl-H₂SO₄溶液進行刻蝕的溫度為60～80℃，時間為20～40min。

5.根據權利要求1所述電暈電極的制作方法，其特征在于，所述步驟(7)中PdCl₂溶液的濃度為0.1g/L，采用PdCl₂溶液浸泡的時間為20～50min。

6.根據權利要求1所述電暈電極的制作方法，其特征在于，所述步驟(8)中含鉑鍍液是濃度為0.5g/L的Pt(NO₂)₂(NH₃)₂溶液，鍍鉑過程中采用的還原劑為濃度為12g/L的水合肼和/或濃度為5g/L的鹽酸羥胺，鍍鉑過程溫度控制在40～60℃。

7.一種根據權利要求1-6任一項所述制作方法制備得到的電暈電極。

8.一種權利要求7所述電暈電極在等離子體發生裝置中的應用。

9.根據權利要求8所述的應用，其特征在于，所述等離子體發生裝置用于創傷傷口的治療。