[發(fā)明專利]聚合物真空鍍膜機

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710270939.3
• 申請日: 2017-04-24
• 公開（公告）號: CN107217233A
• 公開（公告）日: 2017-09-29
• 發(fā)明（設計）人: 高嵩
• 申請（專利權）人: 無錫市司馬特貿(mào)易有限公司
• 主分類號: C23C14/12
• 分類號: C23C14/12;C23C14/26;C23C14/56
• 代理公司: 蘇州國誠專利代理有限公司32293
• 代理人: 劉彥

1.一種聚合物真空鍍膜機，其特征在于，所述聚合物真空鍍膜機包括：真空箱體、鍍膜鼓、擋板、調壓器以及蒸發(fā)裝置；

所述鍍膜鼓、擋板以及蒸發(fā)裝置位于所述真空箱體內部，所述擋板分布于所述鍍膜鼓的兩側，所述鍍膜鼓部分地自兩側擋板之間的空間伸出，所述蒸發(fā)裝置于所述鍍膜鼓下方，所述蒸發(fā)裝置與所述鍍膜鼓之間的空間形成蒸鍍升華空間，所述蒸發(fā)裝置包括殼體以及設置于所述殼體中的加熱器，所述加熱器上均勻鋪設有聚合物蒸發(fā)源，所述調壓器與所述加熱器電性連接。

2.根據(jù)權利要求1所述的聚合物真空鍍膜機，其特征在于，所述鍍膜鼓與兩側擋板之間具有間隙，所述間隙的尺寸大于所述鍍膜鼓上卷繞的基材與基材上鍍層的厚度之和。

3.根據(jù)權利要求2所述的聚合物真空鍍膜機，其特征在于，所述基材為塑料基材。

4.根據(jù)權利要求3所述的聚合物真空鍍膜機，其特征在于，所述塑料基材PET、CPP以及OPP中的一種。

5.根據(jù)權利要求1所述的聚合物真空鍍膜機，其特征在于，所述加熱器的蒸發(fā)溫度為400℃～500℃，所述鍍膜鼓為低溫鍍膜鼓。

6.根據(jù)權利要求5所述的聚合物真空鍍膜機，其特征在于，所述調壓器控制所述加熱器的蒸發(fā)溫度在所述400℃～500℃之間進行調節(jié)。

7.根據(jù)權利要求1所述的聚合物真空鍍膜機，其特征在于，所述殼體的頂部開設有蒸發(fā)口，所述蒸發(fā)口朝向所述蒸鍍升華空間設置，所述加熱器位于所述殼體的底部。

8.根據(jù)權利要求1所述的聚合物真空鍍膜機，其特征在于，所述聚合物蒸發(fā)源為三聚氰胺蒸發(fā)源。