[發明專利]一種顯示基板、其制作方法及顯示裝置有效
| 申請號: | 201710256728.4 | 申請日: | 2017-04-19 |
| 公開(公告)號: | CN107068719B | 公開(公告)日: | 2019-07-30 |
| 發明(設計)人: | 宋振;孫宏達;王國英 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291 | 代理人: | 郭潤湘 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 顯示 制作方法 顯示裝置 | ||
1.一種顯示基板,包括呈矩陣排列的多個子像素,其特征在于,所述顯示基板還包括:襯底基板,依次設置在所述襯底基板上的層間絕緣層、至少一個墊高結構、以及多條信號線;其中,
所述墊高結構在所述襯底基板上的正投影位于相鄰的兩個子像素在所述襯底基板上的正投影之間,且位于相鄰的兩條信號線在所述襯底基板上的正投影之間;
所述兩條信號線至少分別覆蓋所述墊高結構的兩個側面。
2.如權利要求1所述的顯示基板,其特征在于,所述顯示基板還包括:依次設置在所述多條信號線上方的鈍化層和彩膜層;
與所述墊高結構對應的鈍化層上遠離所述襯底基板的一側,與所述彩膜層上遠離所述襯底基板的一側齊平。
3.如權利要求2所述的顯示基板,其特征在于,所述顯示基板還包括:依次設置在所述彩膜層上方的平坦化層、陽極層、像素定義層、發光層和陰極層;
所述陽極層和所述發光層層疊設置,且位于子像素區域;
所述像素定義層圍繞所述陽極層和所述發光層的邊緣;
所述像素定義層上靠近所述襯底基板的一側與所述陽極層上靠近所述襯底基板的一側齊平、所述像素定義層上遠離所述襯底基板的一側與所述發光層上遠離所述襯底基板的一側齊平;
所述平坦化層和所述陰極層均為平行的一整層結構。
4.如權利要求1所述的顯示基板,其特征在于,所述兩條信號線覆蓋所述墊高結構上遠離所述襯底基板的一側,且所述兩條信號線之間具有間隙。
5.如權利要求1所述的顯示基板,其特征在于,所述信號線包括下列線中的部分或者全部:
數據線、VDD線或外部補償信號線。
6.如權利要求1所述的顯示基板,其特征在于,所述墊高結構在垂直于所述襯底基板方向上的截面形狀為梯形或矩形。
7.如權利要求1所述的顯示基板,其特征在于,所述墊高結構的厚度為1微米-2微米。
8.如權利要求1-7任一項所述的顯示基板,其特征在于,所述墊高結構的材料為下列之一或組合:
聚硅氧烷系材料,亞克力系材料,或聚酰亞胺系材料。
9.一種顯示裝置,其特征在于,該顯示裝置包括權利要求1-8中任一項所述的顯示基板。
10.一種如權利要求1-8任一項所述的顯示基板的制作方法,其特征在于,包括:
在襯底基板上形成層間絕緣層;
在所述層間絕緣層上涂覆一層用于墊高的材料,通過曝光顯影工藝,在相鄰的兩個子像素之間形成至少一個墊高結構;
對形成的所述墊高結構進行烘烤以增加其硬度;
形成層間絕緣層的圖案;
在形成有墊高結構的襯底基板上形成多條信號線,使位于相鄰的兩個子像素之間的相鄰的兩條信號線,分別位于所述墊高結構的兩側,且使所述兩條信號線至少分別覆蓋所述墊高結構的兩個側面。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





