[發明專利]清洗設備

在審

• 申請號: 201710248501.5
• 申請日: 2017-04-17
• 公開（公告）號: CN108695190A
• 公開（公告）日: 2018-10-23
• 發明（設計）人: 蔡家壽;楊志仁;余昇峰;劉建成;林偉勝
• 申請（專利權）人: 矽品精密工業股份有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;B08B3/02
• 代理公司: 北京戈程知識產權代理有限公司 11314
• 代理人: 程偉;王錦陽

1.一種清洗設備，應用于半導體制程，其特征為，該清洗設備包括：

液體供應源，其用以裝載清洗液；

過濾器，其通過第一管路連通該液體供應源，以過濾由該液體供應源饋入該過濾器的清洗液；

供應裝置，其通過第二管路連通該過濾器，以將該經過濾的清洗液噴灑于物件上；以及

第一感測器，其對應該第二管路作配置，以檢測該經過濾的清洗液的品質。

2.根據權利要求1所述的清洗設備，其特征為，該第一感測器為電極板。

3.根據權利要求1所述的清洗設備，其特征為，該清洗設備還包括對應該液體供應源作配置且連通該第一管路的驅動裝置。

4.根據權利要求1所述的清洗設備，其特征為，該清洗設備還包括用以承載該物件的承載座。

5.根據權利要求1所述的清洗設備，其特征為，該清洗設備還包括用以偵測清洗后的該物件的表面潔凈度的偵測裝置。

6.根據權利要求1所述的清洗設備，其特征為，該清洗設備還包括用以檢測流經該物件的清洗液的品質的第二感測器。

7.根據權利要求6所述的清洗設備，其特征為，該第二感測器為電極板。

8.根據權利要求1所述的清洗設備，其特征為，該清洗設備還包括資料處理裝置，用以接收該第一感測裝置所檢測該清洗液的數據資料，以判定該數據資料是否超過設定值。

9.根據權利要求1所述的清洗設備，其特征為，該清洗設備還包括用以回收該清洗液的回收裝置。

10.根據權利要求9所述的清洗設備，其特征為，該回收裝置連通該液體供應源。