[發明專利]曝光裝置、曝光方法以及器件制造方法

在審

• 申請號: 201710243823.0
• 申請日: 2004-02-26
• 公開（公告）號: CN106873316A
• 公開（公告）日: 2017-06-20
• 發明（設計）人: 長坂博之
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所11038
• 代理人: 金春實

1.一種曝光裝置，通過隔著液體把規定圖案的像投影到基板上來曝光基板，該曝光裝置包括：

把上述圖案的像投影到基板上的投影光學系統；

為了在包含投影光學系統的投影區域的一部分基板上形成液浸區域，從在多個不同的方向上與投影區域隔開的多個位置上同時向基板上進行液體供給的液體供給機構。

2.權利要求1所述的曝光裝置，在順序曝光上述基板上的多個拍攝區域時，上述液體供給機構從上述多個位置連續提供液體。

3.權利要求1所述的曝光裝置，上述液體供給機構同時進行從上述投影區域的兩側向上述基板上的液體供給。

4.權利要求3所述的曝光裝置，上述液體供給機構從上述投影區域的兩側供給等量的液體。

5.權利要求3所述的曝光裝置，上述基板上的各拍攝區域一邊向規定的掃描方向移動一邊被曝光，上述液體供給機構相對于上述掃描方向從上述投影區域的兩側進行上述液體的供給。

6.權利要求5所述的曝光裝置，上述液體供給機構把相對于上述掃描方向從上述投影區域的跟前提供的液體量設置成比在其相反側提供的液體量還多。

7.權利要求1所述的曝光裝置，進一步包括和上述液體的供給并行地進行上述基板上的液體的回收的液體回收機構。

8.權利要求7所述的曝光裝置，上述液體回收機構從在多個不同的方向上與上述投影區域隔開的多個位置上同時進行上述基板上的液體的回收。

9.一種曝光裝置，通過隔著液體把規定圖案的像投影到基板上來曝光基板，該曝光裝置包括：

把上述圖案的像投影到基板上的投影光學系統；

為了在包含投影光學系統的投影區域的一部分基板上形成液浸區域而向基板上提供液體的液體供給機構；

從在多個不同的方向上與投影區域隔開的多個位置上同時進行基板上的液體回收的液體回收機構。

10.權利要求8或者9所述的曝光裝置，上述液體回收機構在上述投影區域的兩側同時進行上述回收。

11.權利要求8或者9所述的曝光裝置，上述液體回收機構具有連續形成為包圍上述投影區域的回收口。

12.權利要求11所述的曝光裝置，在上述連續形成的回收口的內部設置有隔斷。

13.權利要求8或者9所述的曝光裝置，上述液體回收機構根據液體的回收位置用不同的回收力來回收液體。

14.一種曝光裝置，通過隔著液體把規定圖案的像投影到基板上來曝光基板，該曝光裝置包括：

把上述圖案的像投影到基板上的投影光學系統；

為了在包含投影光學系統的投影區域的一部分基板上形成液浸區域而向基板上提供液體的液體供給機構；

在多個位置上同時進行基板上的液體回收的液體回收機構，

上述液體回收機構根據液體回收位置以不同的回收力來回收液體。

15.權利要求13或者14所述的曝光裝置，上述基板上的各拍攝區域一邊向規定的掃描方向移動一邊被曝光，上述液體回收機構使在上述掃描方向上與上述投影區域隔開的規定位置上的液體回收力，比和上述規定位置不同的位置上的液體回收力還大。

16.權利要求7、9以及14的任一項所述的曝光裝置，進一步包括被配置在相對上述投影區域由上述液體回收機構進行的液體回收位置的外側且形成有捕捉用上述液體回收機構不能徹底回收的液體的規定長度的液體收集面的收集部件。

17.一種曝光裝置，通過隔著液體把規定圖案的像投影到基板上來曝光基板，該曝光裝置包括：

把上述圖案的像投影到基板上的投影光學系統；

為了在包含投影光學系統的投影區域的一部分基板上形成液浸區域而向基板上提供液體的液體供給機構；

在離開投影區域的回收位置上進行基板上的液體回收的液體回收機構；

被配置在相對投影區域由液體回收機構進行的液體回收位置的外側且形成有捕捉液體的液體收集面的收集部件。

18.權利要求16或者17所述的曝光裝置，上述收集面被實施了提高和上述液體的親和性的處理。

19.權利要求18所述的曝光裝置，上述收集面的液體親和性比上述基板表面的液體親和性還高。