[發(fā)明專利]一種甲苯與4,4’?聯(lián)吡啶構筑的新型磁性聚合物材料及合成方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710241245.7 | 申請日: | 2017-04-13 |
| 公開(公告)號: | CN107057078A | 公開(公告)日: | 2017-08-18 |
| 發(fā)明(設計)人: | 張淑華;楊云蓮;陳光輝;張沖 | 申請(專利權)人: | 桂林理工大學 |
| 主分類號: | C08G83/00 | 分類號: | C08G83/00;H01F1/42 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 541004 廣西壯*** | 國省代碼: | 廣西;45 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 甲苯 吡啶 構筑 新型 磁性 聚合物 材料 合成 方法 | ||
技術領域
4-(N,N’-雙(4-羧基芐基)氨基)甲苯與4,4’-聯(lián)吡啶構筑的新型磁性聚合物材料{[NiL(4,4’-bpy)]·H2O}n(H2L為4-(N,N’-雙(4-羧基芐基)氨基)甲苯,4,4’-bpy為4,4’-聯(lián)吡啶)及合成方法。
背景技術
配位聚合物(coordination polymer)是進十幾年配位化學發(fā)展的最快的一個方向,是一個涉及無機化學、有機化學和配位化學等多學科的嶄新的研究課題。兼有無機材料的剛性和有機材料的柔性特征,使其在現(xiàn)代材料研究方面呈現(xiàn)出巨大的發(fā)展?jié)摿驼T人的發(fā)展前景。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的就是為設計合成4-(N,N’-雙(4-羧基芐基)氨基)甲苯與4,4’-聯(lián)吡啶構筑的新型磁性聚合物材料,利用溶劑熱法合成{[NiL(4,4’-bpy)]·H2O}n。
本發(fā)明涉及的{[NiL(4,4’-bpy)]·H2O}n的單體分子式為:C33H29N3NiO5,分子量為:606.30g/mol,H2L為4-(N,N’-雙(4-羧基芐基)氨基)甲苯,4,4’-bpy為4,4’-聯(lián)吡啶。晶體結構數(shù)據(jù)見表一,鍵長鍵角數(shù)據(jù)見表二。
表一{[NiL(4,4’-bpy)]·H2O}n的晶體學參數(shù)
aR1=Σ||Fo|–|Fc||/Σ|Fo|.bwR2=[Σw(|Fo2|–|Fc2|)2/Σw(|Fo2|)2]1/2
表二{[NiL(4,4’-bpy)]·H2O}n的部分鍵長和鍵角(°)
所述{[NiL(4,4’-bpy)]·H2O}n的合成方法具體步驟為:
(1)將0.094-0.188g分析純H2L和0.078-0.156g分析純4,4’-聯(lián)吡啶溶于10-20mL二次蒸餾水中,調(diào)節(jié)pH為8后,再加入0.062-0.124g分析純乙酸鎳,置于聚氟四乙烯高壓反應釜中,并置于180℃烘箱三天后取出,冷卻至室溫,打開高壓反應釜,底部有淺綠色透明塊狀晶體即{[NiL(4,4’-bpy)]·H2O}n。通過單晶衍射儀測定{[NiL(4,4’-bpy)]·H2O}n的結構,晶體結構數(shù)據(jù)見表一,鍵長鍵角數(shù)據(jù)見表二。
(2)取步驟(1)所得純相{[NiL(4,4’-bpy)]·H2O}n晶體在溫度2-300K,1KOe直流外磁場下掃描。以所得數(shù)據(jù)繪制χm-T、χmT-T曲線,χmT在300K時為3.66cm3Kmol-1,之后隨溫度的降低χmT也不斷降低,在2K時達到最小值0.55cm3Kmol-1。
本發(fā)明具有工藝簡單、成本低廉、化學組分易于控制、重復性好并產(chǎn)量高等優(yōu)點。
附圖說明
圖1為本發(fā)明{[NiL(4,4’-bpy)]·H2O}n所用4-(N,N’-雙(4-羧基芐基)氨基)甲苯的結構示意圖。
圖2為本發(fā)明{[NiL(4,4’-bpy)]·H2O}n的單體結構示意圖。
圖3為本發(fā)明{[NiL(4,4’-bpy)]·H2O}n三維堆積示意圖。
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