[發明專利]監控襯底涂布位置的方法

有效

• 申請號: 201710237323.6
• 申請日: 2017-04-12
• 公開（公告）號: CN107039305B
• 公開（公告）日: 2019-10-01
• 發明（設計）人: 龔成波
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電技術有限公司
• 主分類號: H01L21/66
• 分類號: H01L21/66;H01L51/56;H01L23/544
• 代理公司: 深圳市德力知識產權代理事務所 44265
• 代理人: 林才桂

1.一種監控襯底涂布位置的方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟S1、提供一玻璃基板(1)，在所述玻璃基板(1)上涂布柔性襯底材料，形成柔性襯底(2)；

步驟S2、在所述柔性襯底(2)和玻璃基板(1)上沉積無機薄膜材料，得到一透明的無機層(3)；

步驟S3、在所述無機層(3)上沉積光阻層，對所述光阻層進行圖案化，得到數個與所述玻璃基板(1)的邊緣垂直的條狀的位置監控標記(41)；

所述數個位置監控標記(41)圍繞所述玻璃基板(1)的四邊間隔排列，所述玻璃基板(1)的每一條邊對應至少一個位置監控標記(41)，每一個位置監控標記(41)的中點到所述玻璃基板(1)的邊緣的距離小于柔性襯底(2)的邊緣到玻璃基板(1)的邊緣的距離的設計值，每一個位置監控標記(41)遠離所述玻璃基板(1)的邊緣的一端到所述玻璃基板(1)的邊緣的距離大于柔性襯底(2)的邊緣到玻璃基板(1)的邊緣的距離的設計值；

每一個位置監控標記(41)均包括：沿所述位置監控標記(41)的延伸方向等距間隔排列的刻度線(411)；

步驟S4、拍攝所述玻璃基板(1)上柔性襯底(2)及位置監控標記(41)的畫面，并根據拍攝到的畫面和位置監控標記(41)上的刻度線(411)識別柔性襯底(2)的邊緣到玻璃基板(1)的邊緣的距離的實際值，比較所述柔性襯底(2)的邊緣到玻璃基板(1)的邊緣的距離的實際值和柔性襯底(2)的邊緣到玻璃基板(1)的邊緣的距離的設計值，以監控所述襯底涂布精度；

所述刻度線(411)包括：交替排列的多個主刻度線(4111)和多個副刻度線(4112)，所述主刻度線(4111)的高度大于所述副刻度線(4112)的高度；

每一個位置監控標記(41)還包括：對應每一個主刻度線(4111)設置的刻度值(412)，所述刻度值(412)表示其所對應的主刻度線(4111)到所述玻璃基板(1)的邊緣的距離。

2.如權利要求1所述的監控襯底涂布位置的方法，其特征在于，所述無機層(3)包括：無機絕緣層(31)、以及位于所述無機絕緣層(31)上的非晶硅層(32)。

3.如權利要求2所述的監控襯底涂布位置的方法，其特征在于，所述無機絕緣層(31)的材料為氧化硅和氮化硅中的一種或多種的組合。

4.如權利要求2所述的監控襯底涂布位置的方法，其特征在于，所述步驟S3中對光阻層圖案化后還得到用于圖案化所述非晶硅層(32)的光阻圖案。

5.如權利要求1所述的監控襯底涂布位置的方法，其特征在于，所述柔性襯底材料為聚酰亞胺。

6.如權利要求1所述的監控襯底涂布位置的方法，其特征在于，相鄰的兩個主刻度線(4111)之間的距離為1mm，相鄰的一個主刻度線(4111)和一個副刻度線(4112)之間的距離為0.5mm。

7.如權利要求1所述的監控襯底涂布位置的方法，其特征在于，所述步驟S4中通過自動光學檢測機臺拍攝所述玻璃基板(1)上柔性襯底(2)及位置監控標記(41)的畫面。