[發明專利]共聚物及包含該共聚物的親水性材料在審
| 申請號: | 201710231230.2 | 申請日: | 2014-04-07 |
| 公開(公告)號: | CN107057256A | 公開(公告)日: | 2017-08-18 |
| 發明(設計)人: | 岡崎光樹 | 申請(專利權)人: | 三井化學株式會社 |
| 主分類號: | C08L33/26 | 分類號: | C08L33/26;C09D133/26;C09D5/24;C09D5/16;C09D5/00;C08F220/58;C08F220/32;C08F230/08;B32B27/06;B32B27/30 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務所11256 | 代理人: | 楊宏軍 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 共聚物 包含 親水性 材料 | ||
1.一種組合物,其含有共聚物(i)和選自下述(a)~(d)中的至少一種,所述共聚物(i)包含下述通式(1)、(2)及(3)所示的結構單元,
(a)除共聚物(i)之外的具有環氧基的化合物;
(b)多官能(甲基)丙烯酸酯;
(c)填充材料;及
(d)除下述通式(7)所示的硅烷化合物(ii)之外的具有水解性基團的硅烷化合物,
所述式(1)、(2)及(3)中,a、b、及c表示各結構單元的結構單元比,a=0.998~0.001,b=0.001~0.998,c=0.001~0.998,并且a+b+c=1,
A1表示單鍵、碳原子數1~10的2價的烴基、下述式(1-1)所示的基團或下述式(1-2)所示的基團,A2表示單鍵、碳原子數1~10的2價的烴基、下述式(2-1)所示的基團或下述式(2-2)所示的基團,A3表示單鍵、碳原子數1~10的2價的烴基、下述式(3-1)所示的基團或下述式(3-2)所示的基團,
R1、R2及R3獨立地表示氫原子或甲基,R4獨立地表示氫原子、甲基、乙基、丙基或丁基,R10表示氫原子、甲基、乙基、丙基、丁基、甲氧基、乙氧基、丙氧基或丁氧基,
M表示氫原子、堿金屬離子、1/2價的堿土金屬離子、或銨離子;
下述式(1-1)、(1-2)、(2-1)、(2-2)、(3-1)及(3-2)中,n及n2獨立地為1~10的整數,n1為0~10的整數,m為1~6的整數,m1為0~6的整數,l為0~4的整數,R5及R6獨立地表示氫原子或甲基,*表示與SO3M鍵合側的端部,**表示與環氧基鍵合側的端部,***表示與Si原子鍵合側的端部,
所述式(7)中,X1及X2各自獨立地表示羥基、碳原子數1~4的烷氧基或鹵原子,
R11~R14各自獨立地表示羥基、氫原子、碳原子數1~4的烷基、乙烯基、烯丙基、苯基、2-苯基-乙基、碳原子數1~4的烷氧基或鹵原子,
q為0~10000的整數。
2.如權利要求1所述的組合物,其中,通式(1)、(2)及(3)所示的結構單元分別包含下述通式(4)、(5)及(6)所示的結構單元,
所述式(4)、(5)及(6)中,a、b及c表示各結構單元的結構單元比,a=0.998~0.001,b=0.001~0.998,c=0.001~0.998,并且a+b+c=1,
n為1~10的整數,n1為0~10的整數,
R1、R2、R3、R5及R6獨立地表示氫原子或甲基,R4獨立地表示氫原子、甲基、乙基、丙基或丁基,R10表示氫原子、甲基、乙基、丙基、丁基、甲氧基、乙氧基、丙氧基或丁氧基,
M表示氫原子、堿金屬離子、1/2價的堿土金屬離子、或銨離子。
3.如權利要求1或2所述的組合物,其中,所述共聚物(i)的利用GPC測得的重均分子量為500~3,000,000。
4.如權利要求1所述的組合物,所述組合物還含有所述通式(7)所示的硅烷化合物(ii)。
5.如權利要求4所述的組合物,其中,所述共聚物(i)的重量與所述硅烷化合物(ii)的SiO2換算重量之比在99.9/0.1~0.1/99.9的范圍內。
6.一種膜(Z1),其厚度大于100nm,所述膜是由權利要求1~5中任一項所述的組合物得到的。
7.如權利要求6所述的膜(Z1),其是通過加熱而得到的。
8.一種層疊體,其具有至少1層由權利要求6所述的膜形成的層(Z1)。
9.如權利要求8所述的層疊體,其中,所述層(Z1)為層疊體的最外層。
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