[發明專利]一種高純低密度氧化鎢靶材的制備工藝及氧化鎢靶材在審
| 申請號： | 201710218606.6 | 申請日： | 2017-04-05 |
| 公開（公告）號： | CN106977202A | 公開（公告）日： | 2017-07-25 |
| 發明（設計）人： | 張士察;孫振德 | 申請（專利權）人： | 北京冶科納米科技有限公司 |
| 主分類號： | C04B35/495 | 分類號： | C04B35/495;C04B35/634;C04B35/64 |
| 代理公司： | 北京英特普羅知識產權代理有限公司11015 | 代理人： | 齊永紅;郭美娟 |
| 地址： | 101100 北京市*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 高純 密度 氧化鎢 制備 工藝 | ||
【說明書】：
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