[發(fā)明專利]顯示裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710201625.8 | 申請(qǐng)日: | 2014-07-16 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107393930B | 公開(公告)日: | 2019-07-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 甚田誠(chéng)一郎 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 索尼公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/12 | 分類號(hào): | H01L27/12;H01L27/32;H01L29/10;H01L29/786 |
| 代理公司: | 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240 | 代理人: | 余剛;吳孟秋 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示裝置 | ||
1.一種顯示裝置,包括多個(gè)像素,所述像素中的至少一個(gè)包括:
形成在襯底上的導(dǎo)電層;
形成在導(dǎo)電層上的第一絕緣層;
第一多晶硅層;
第二多晶硅層;
第二絕緣層,形成在所述第一多晶硅層和所述第二多晶硅層上;
第一柵極和第二柵極,形成在所述第二絕緣層上;
第三絕緣層,形成在所述第一柵極和所述第二柵極上;以及
發(fā)光元件,形成在所述第三絕緣層上并且配置為發(fā)射光,
其中,所述第一柵極與所述第一多晶硅層重疊,
其中,所述第二柵極與所述第二多晶硅層重疊,
其中,所述第一柵極、所述第二柵極和所述導(dǎo)電層中的每一個(gè)由鉬制成,
其中,所述第一多晶硅層不與所述導(dǎo)電層重疊;
其中,所述第二多晶硅層包括(i)與所述第二柵極和所述導(dǎo)電層重疊的溝道;以及(ii)不與所述第二柵極和所述導(dǎo)電層重疊的彎曲部;
其中,所述第一多晶硅層配置為從數(shù)據(jù)線提供數(shù)據(jù)電壓,并且
其中,所述第二多晶硅層配置為根據(jù)所述數(shù)據(jù)電壓從電壓線向所述發(fā)光元件提供驅(qū)動(dòng)電流。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中所述第二多晶硅層的所述彎曲部是所述第二多晶硅層的多個(gè)彎曲部中的一個(gè)彎曲部,其中每個(gè)所述彎曲部彎曲180度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中所述第二多晶硅層的所述彎曲部是所述第二多晶硅層的單個(gè)彎曲部,其中所述單個(gè)彎曲部彎曲180度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中所述第二多晶硅層的所述彎曲部是所述第二多晶硅層的多個(gè)彎曲部中的一個(gè)彎曲部,其中每個(gè)所述彎曲部彎曲90度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中所述第二多晶硅層的所述彎曲部是所述彎曲部的單個(gè)彎曲部,其中所述單個(gè)彎曲部彎曲90度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中所述第二多晶硅層具有“S”形形狀。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中所述第二多晶硅層具有“U”形形狀。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中所述顯示裝置是頂部發(fā)射型。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,
其中,所述第一柵極和所述第一多晶硅層配置為提供寫入晶體管,以及
其中,所述第二柵極和所述第二多晶硅層配置為提供驅(qū)動(dòng)晶體管。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于索尼公司,未經(jīng)索尼公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710201625.8/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





