[發(fā)明專利]一種經(jīng)由細(xì)胞片層獲得的導(dǎo)電細(xì)胞外基質(zhì)復(fù)合薄膜及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710198946.7 | 申請日: | 2017-03-29 |
| 公開(公告)號: | CN106963987B | 公開(公告)日: | 2020-05-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 程逵;王小召;陳樽;翁文劍 | 申請(專利權(quán))人: | 浙江大學(xué) |
| 主分類號: | A61L27/38 | 分類號: | A61L27/38;A61L27/56;A61L27/58;A61L27/12;A61L27/50;A61L27/36 |
| 代理公司: | 杭州求是專利事務(wù)所有限公司 33200 | 代理人: | 萬尾甜;韓介梅 |
| 地址: | 310058 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 經(jīng)由 細(xì)胞 獲得 導(dǎo)電 基質(zhì) 復(fù)合 薄膜 及其 制備 方法 | ||
1.一種經(jīng)由細(xì)胞片層獲得導(dǎo)電細(xì)胞外基質(zhì)復(fù)合薄膜的方法,其特征在于,制備方法包括如下步驟:
(a). 對涂有TiO2納米點薄膜的表面以紫外光照或蒸氣消毒方式消毒;
(b). 將上述經(jīng)處理后的表面作為體外細(xì)胞培養(yǎng)表面,在其表面以5×104~2×106個/cm2的密度種植細(xì)胞,加入細(xì)胞培養(yǎng)基,并放入37℃恒溫及5%二氧化碳的細(xì)胞培養(yǎng)箱中培養(yǎng)7~15天;1~3天換液一次,在細(xì)胞脫附前1~5天加入1~100 μg/mL納米導(dǎo)電物質(zhì),最終在細(xì)胞培養(yǎng)表面上形成完整的細(xì)胞片層;
(c). 將經(jīng)上述培養(yǎng)后的培養(yǎng)表面移入PBS中,通過波長為365 nm的紫外光光照5~30min,使培養(yǎng)后的細(xì)胞或細(xì)胞薄層脫附,用PBS緩沖液以及去離子水對脫附后的細(xì)胞片層反復(fù)清洗;
(d). 將細(xì)胞片層浸泡于去離子水中,置于-80℃冷凍30~60 min,取出后在25~37℃解凍20~45 min,冷凍-解凍循環(huán)重復(fù)3~10次,之后用去離子水清洗,獲得導(dǎo)電細(xì)胞外基質(zhì)復(fù)合薄膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的經(jīng)由細(xì)胞片層獲得導(dǎo)電細(xì)胞外基質(zhì)復(fù)合薄膜的方法,其特征在于,所述的納米導(dǎo)電物質(zhì)為石墨烯納米片、石墨烯納米點、納米碳纖維、單壁碳納米管、多壁碳納米管、納米碳顆粒、碳量子點、納米金顆粒、納米銀顆粒中的一種或多種。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的經(jīng)由細(xì)胞片層獲得導(dǎo)電細(xì)胞外基質(zhì)復(fù)合薄膜的方法,其特征在于,所述的石墨烯納米片尺寸為0.5~2 μm,厚度為0.8~2 nm;石墨烯納米點的尺寸為5~10nm;納米碳纖維的直徑為50~200 nm;單壁碳納米管的直徑為1~2 nm,長度1~3μm;多壁碳納米管的直徑為1~50 nm, 長度0.5~2μm;碳量子點的尺寸為3~5 nm;納米金顆粒的直徑為10~50 nm;納米銀顆粒的直徑為10~100 nm。
4.一種導(dǎo)電細(xì)胞外基質(zhì)復(fù)合薄膜,其特征在于,采用如權(quán)利要求1所述的方法制備而成,厚度為3~10μm。
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A61L27-02 .無機(jī)材料
A61L27-14 .大分子物質(zhì)
A61L27-28 .假體被覆材料
A61L27-36 .含有未確定結(jié)構(gòu)的組分或其反應(yīng)產(chǎn)物
A61L27-40 .復(fù)合材料,即層疊的或含有一種分散在相同或不同基質(zhì)之中的材料的復(fù)合材料
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