[發(fā)明專利]一種基于機器視覺的磁瓦缺陷檢測取相系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710189053.6 | 申請日: | 2017-03-27 |
| 公開(公告)號: | CN108663369A | 公開(公告)日: | 2018-10-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 薛春花;王文濤;陳志列 | 申請(專利權(quán))人: | 研祥智能科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/88 | 分類號: | G01N21/88 |
| 代理公司: | 北京匯澤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11228 | 代理人: | 張瑾 |
| 地址: | 518107 廣東省深圳市光*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 磁瓦 缺陷檢測 外弧面 光源 基于機器 相系統(tǒng) 視覺 檢測 相機 端面缺陷 光源區(qū)域 機器分揀 幾何中心 人工效率 直邊中點 自動檢測 內(nèi)弧面 邊面 分揀 連線 銳角 出錯 對稱 拍攝 | ||
本發(fā)明提供一種基于機器視覺的磁瓦缺陷檢測取相系統(tǒng),包括內(nèi)/外弧面磨歪檢測取相模塊,1/2外弧面其他缺陷檢測取相模塊,內(nèi)弧面其他缺陷檢測取相模塊,邊面缺陷檢測取相模塊和端面缺陷檢測取相模塊;其中內(nèi)/外弧面磨歪檢測取相模塊包括第一條光源和第一相機,第一條光源包括與所述磁瓦的直邊中點連線所在垂直平面夾銳角對稱的左側(cè)第一條光源和右側(cè)第一條光源,第一相機用于拍攝磁瓦的內(nèi)/外弧面且位于所述磁瓦的內(nèi)/外弧面幾何中心的正上方,磁瓦位于第一條光源的光源區(qū)域中央。本發(fā)明能夠解決磁瓦分揀中人工效率低且機器分揀易出錯的問題,使得基于機器視覺的磁瓦缺陷自動檢測更精準。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及機械工程照明技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種基于機器視覺的磁瓦缺陷檢測取相系統(tǒng)。
背景技術(shù)
磁瓦是一種瓦狀鐵氧體永磁材料,廣泛應(yīng)用于永磁直流電機中,其作用是代替磁繞組產(chǎn)生磁場,是永磁電機的重要組成部件,在汽車、家電、電動工具等工業(yè)領(lǐng)域應(yīng)用廣泛,需求量巨大。磁瓦質(zhì)量的好壞對永磁電機的性能有很大的影響,因此對不合格磁瓦進行分揀具有重要的經(jīng)濟價值。
目前磁瓦缺陷檢測主要依靠工人以肉眼分辨檢測,勞動強度大,人員易疲勞,誤檢率較高,無法實現(xiàn)自動化和智能化;同時,當磁瓦弧度較大時,磁瓦缺陷檢測設(shè)備也因景深大、成像效果差、取相難度大等原因難以實現(xiàn)正確分揀。
因而,亟需設(shè)計一種取相可靠而全面的磁瓦檢測取相系統(tǒng),對實現(xiàn)磁瓦缺陷自動檢測尤為重要。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供的基于機器視覺的磁瓦缺陷檢測取相系統(tǒng),能夠克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,在磁瓦的多個表面全面打光,進行準確的取相,從而實現(xiàn)磁瓦缺陷的自動檢測。
第一方面,本發(fā)明提供一種基于機器視覺的磁瓦缺陷檢測取相系統(tǒng),包括用于對磁瓦的內(nèi)/外弧面進行打光和取相的內(nèi)/外弧面磨歪檢測取相模塊;用于對所述磁瓦的外弧面進行打光和取相的1/2外弧面其他缺陷檢測取相模塊;用于對所述磁瓦的內(nèi)弧面進行打光和取相的內(nèi)弧面其他缺陷檢測取相模塊;用于對所述磁瓦的邊面進行打光和取相的邊面缺陷檢測取相模塊;用于對所述磁瓦的端面進行打光和取相的端面缺陷檢測取相模塊;其特征在于,所述內(nèi)/外弧面磨歪檢測取相模塊包括:
第一條光源,所述第一條光源包括左側(cè)第一條光源和右側(cè)第一條光源,所述左側(cè)第一條光源和所述右側(cè)第一條光源與所述磁瓦的直邊中點連線所在垂直平面夾銳角對稱;
第一相機,用于拍攝所述磁瓦的內(nèi)/外弧面,且位于所述磁瓦的內(nèi)/外弧面幾何中心的正上方;
其中,所述磁瓦位于所述第一條光源的光源區(qū)域中央。
可選地,上述第一條光源與所述磁瓦的直邊中點連線所在垂直平面的相對位置和夾角均可調(diào)。
可選地,上述磁瓦缺陷檢測取相系統(tǒng)包括關(guān)于所述磁瓦的弧邊法線所在平面對稱的兩個所述1/2外弧面其他缺陷檢測取相模塊。
可選地,上述1/2外弧面其他缺陷檢測取相模塊包括:
第二條光源,所述第二條光源包括左側(cè)第二條光源和右側(cè)第二條光源,所述左側(cè)第二條光源和所述右側(cè)第二條光源與所述磁瓦弧邊1/4圓弧法線所在的平面夾銳角對稱;
第一圓頂光源,位于所述磁瓦上方的所述磁瓦弧邊1/4圓弧法線方向;
第二相機,用于拍攝所述磁瓦的外弧面,且位于所述磁瓦上方的所述磁瓦弧邊1/4圓弧法線方向以及所述第一圓頂光源的上方;
其中,所述磁瓦位于所述第二條光源和所述第一圓頂光源的光源區(qū)域中央,所述第二相機的鏡頭中心與所述第一圓頂光源的中心重合。
可選地,上述第二條光源與所述磁瓦弧邊的1/4圓弧法線所在平面的相對位置和夾角均可調(diào),所述第一圓頂光源與所述磁瓦弧邊的1/4圓弧法線的相對位置可調(diào)。
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G01N 借助于測定材料的化學或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
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G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





