[發(fā)明專利]壓力傳感器、高度計(jì)、電子設(shè)備以及移動(dòng)體

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710183633.4
• 申請日: 2017-03-24
• 公開（公告）號(hào): CN107238462A
• 公開（公告）日: 2017-10-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 竹內(nèi)淳一;松沢勇介;四谷真一
• 申請（專利權(quán)）人: 精工愛普生株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G01L9/00
• 分類號(hào): G01L9/00
• 代理公司: 北京金信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11225
• 代理人: 蘇萌萌,范文萍

1.一種壓力傳感器，其特征在于，具有：

隔膜，其通過受壓而撓曲變形；以及

位移限制部，其對所述隔膜的變形進(jìn)行限制，

在所述隔膜受到可測量范圍內(nèi)的壓力的第一狀態(tài)下，所述隔膜與所述位移限制部分離，

在所述隔膜受到與所述可測量范圍相比較高的壓力的第二狀態(tài)下，所述隔膜與所述位移限制部接觸。

2.如權(quán)利要求1所述的壓力傳感器，其中，

具有對置部，所述對置部以在其與所述隔膜之間形成壓力基準(zhǔn)室的方式與所述隔膜對置地配置，

所述位移限制部相對于所述隔膜而被配置在所述對置部側(cè)。

3.如權(quán)利要求2所述的壓力傳感器，其中，

所述對置部兼作所述位移限制部。

4.如權(quán)利要求3所述的壓力傳感器，其中，

所述位移限制部被設(shè)置成從所述對置部向所述隔膜側(cè)突出。

5.如權(quán)利要求3或4所述的壓力傳感器，其中，

在所述第二狀態(tài)下，所述隔膜的中央部與所述位移限制部接觸。

6.如權(quán)利要求2所述的壓力傳感器，其中，

所述位移限制部位于所述隔膜與所述對置部之間。

7.如權(quán)利要求6所述的壓力傳感器，其中，

在所述第二狀態(tài)下，所述隔膜的端部與所述位移限制部接觸。

8.如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的壓力傳感器，其中，

對于所述位移限制部的能夠與所述隔膜接觸的部分，實(shí)施使該部分與所述隔膜之間的接觸面積減少的接觸面積減少處理。

9.如權(quán)利要求8所述的壓力傳感器，其中，

作為所述接觸面積減少處理，在所述位移限制部的能夠與所述隔膜接觸的部分處形成有凹凸。

10.如權(quán)利要求5所述的壓力傳感器，其中，

在將所述隔膜與所述位移限制部之間的分離距離設(shè)為D，

將所述第一狀態(tài)下的所述隔膜的向所述位移限制部側(cè)的位移量設(shè)為α1，

將所述第二狀態(tài)下的所述隔膜的向所述位移限制部側(cè)的位移量設(shè)為α2時(shí)，

滿足α1＜D≤α2的關(guān)系。

11.如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的壓力傳感器，其中，

在所述隔膜中，中央部的厚度比端部的厚度薄。

12.一種高度計(jì)，其特征在于，

具有權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的壓力傳感器。

13.一種電子設(shè)備，其特征在于，

具有權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的壓力傳感器。

14.一種移動(dòng)體，其特征在于，

具有權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的壓力傳感器。