[發明專利]激光晶化裝置及方法在審
| 申請號: | 201710178583.0 | 申請日: | 2017-03-23 |
| 公開(公告)號: | CN107230612A | 公開(公告)日: | 2017-10-03 |
| 發明(設計)人: | 李洪魯;樸來喆;李忠煥 | 申請(專利權)人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/02 | 分類號: | H01L21/02;H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京德琦知識產權代理有限公司11018 | 代理人: | 梁洪源,康泉 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 激光 化裝 方法 | ||
1.一種激光晶化裝置,包括:
激光振蕩器;
工作臺,所述工作臺被配置為支撐基底,所述基底上設置有目標膜,其中所述激光振蕩器被配置為將入射激光束照射到所述目標膜上,其中所述工作臺被配置為移動所述基底,使得所述入射激光束掃描所述目標膜,并且其中所述入射激光束從所述目標膜反射以生成反射激光束;以及
反射單元,所述反射單元包括定位在所述反射激光束的路徑處的至少兩個反射鏡,其中所述反射單元被配置為經由與所述入射激光束的路徑不同的多條路徑將所述反射激光束兩次或更多次地重新照射到所述目標膜上。
2.如權利要求1所述的激光晶化裝置,其中所述反射激光束是第一反射激光束,
其中所述反射單元包括第一反射鏡,所述第一反射鏡反射所述第一反射激光束以生成第二反射激光束,并且
其中所述第二反射激光束的路徑不同于所述第一反射激光束的路徑。
3.如權利要求2所述的激光晶化裝置,其中所述反射單元包括第二反射鏡,所述第二反射鏡被設置為比所述第一反射鏡更遠離所述目標膜,
其中所述第二反射鏡朝著所述目標膜反射所述第二反射激光束以生成第三反射激光束,其中所述第三反射激光束照射到所述目標膜上,并且
其中所述第三反射激光束沿垂直于所述目標膜的表面的方向照射到所述目標膜上。
4.如權利要求3所述的激光晶化裝置,其中所述第三反射激光束從所述目標膜反射以生成第四反射激光束,其中所述第四反射激光束通過與所述第三反射激光束的路徑相同的路徑行進,
其中所述第二反射鏡反射所述第四反射激光束以生成第五反射激光束,其中所述第五反射激光束通過與所述第二反射激光束的所述路徑相同的路徑行進,并且
所述第一反射鏡反射所述第五反射激光束以生成第六反射激光束,其中所述第六反射激光束通過與所述第一反射激光束的所述路徑相同的路徑行進,并且所述第六反射激光束照射到所述目標膜上。
5.如權利要求2所述的激光晶化裝置,其中所述反射單元包括:
第二反射鏡,所述第二反射鏡沿著平行于所述目標膜的表面的方向與所述第一反射鏡間隔開;以及
第三反射鏡,所述第三反射鏡被設置為比所述第一反射鏡和所述第二反射鏡更靠近所述目標膜。
6.如權利要求5所述的激光晶化裝置,其中所述第二反射鏡朝著所述目標膜反射所述第二反射激光束以生成第三反射激光束,其中所述第三反射激光束照射到所述目標膜上,
其中所述目標膜反射所述第三反射激光束以生成第四反射激光束,
其中所述第三反射鏡朝著所述目標膜反射所述第四反射激光束以生成第五反射激光束,其中所述第五反射激光束照射到所述目標膜上,并且
其中所述第五反射激光束的路徑與所述第四反射激光束的路徑相同。
7.如權利要求6所述的激光晶化裝置,其中所述目標膜反射所述第五反射激光束以生成第六反射激光束,
其中所述第二反射鏡反射所述第六反射激光束以生成第七反射激光束,其中所述第七反射激光束具有與所述第二反射激光束的所述路徑相同的路徑,并且
其中所述第一反射鏡反射所述第七反射激光束以生成第八反射激光束,其中所述第八反射激光束具有與所述第一反射激光束的所述路徑相同的路徑,并且所述第八反射激光束照射到所述目標膜上。
8.如權利要求5所述的激光晶化裝置,其中所述反射單元還包括:
沿著平行于所述目標膜的所述表面的方向與所述第三反射鏡間隔開的第四反射鏡;以及
比所述第三反射鏡和所述第四反射鏡更靠近所述目標膜設置的第五反射鏡。
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H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





