[發明專利]一種激光合成監控測量裝置

在審

• 申請號: 201710168832.8
• 申請日: 2017-03-21
• 公開（公告）號: CN108627245A
• 公開（公告）日: 2018-10-09
• 發明（設計）人: 馬駿;陳帆;朱日宏;袁群;潘少華;張建云;王敏
• 申請（專利權）人: 南京理工大學
• 主分類號: G01J3/28
• 分類號: G01J3/28;G01J1/00
• 代理公司: 南京理工大學專利中心 32203
• 代理人: 朱寶慶

1.一種激光合成監控測量裝置，其特征在于，包括分光鏡(2)、功率計(3)、高反鏡(4)、衰減片(5)、聚焦透鏡(6)、CCD(7)、光譜儀(8)、M²因子測量儀(11)；其中

待測合成光束(1)經過分光鏡(2)后分為兩路，其中第一路折射至功率計(3)，第二路透射至高反鏡(4)，

待測合成光束(1)經過高反鏡(4)后分為兩路，其中第一路折射至M²因子測量儀(11)，第二路投射至衰減片(5)，

待測合成光束(1)經過衰減片(5)后一部分經過光線導入光譜儀(8)且另一部分射入聚焦透鏡(6)聚焦至CCD(7)。

2.根據權利要求1所述的一種激光合成監控測量裝置，其特征在于，所述待測合成光束(1)為近紅外激光準直輸出，連續輸出平均功率不超過10kW。

3.根據權利要求1所述的一種激光合成監控測量裝置，其特征在于，所述分光鏡(2)的分光面與入射光束呈45°角且功率閾值大于20MW/cm²。

4.根據權利要求1所述的一種激光合成監控測量裝置，其特征在于，所述高反鏡(4)反射率大于99.9％，直徑為50mm，厚度為10mm。

5.根據權利要求1所述的一種激光合成監控測量裝置，其特征在于，所述衰減片(5)透過率為0.1％。

6.根據權利要求1所述的一種激光合成監控測量裝置，其特征在于，所述聚焦透鏡(6)焦距大于500mm。

7.根據權利要求1所述的一種激光合成監控測量裝置，其特征在于，所述CCD(7)位于聚焦透鏡(6)焦平面處。

8.根據權利要求1所述的一種激光合成監控測量裝置，其特征在于，高反鏡(4)和M²因子測量儀(11)之間設置第一平凸透鏡(9)、第二平凸透鏡(10)，測量待測合成光束(1)光束質量因子時，調節第一平凸透鏡(9)、第二平凸透鏡(10)的俯仰與傾斜，使入射光束光軸與M²因子測量儀(11)內部光學測量系統的光軸重合。

9.根據權利要求8所述的一種激光合成監控測量裝置，其特征在于，第一平凸透鏡(9)、第二平凸透鏡(10)的反射率均為4％。