[發明專利]一種基于大面積超分辨激光直寫系統的圖形刻寫方法有效
| 申請號： | 201710150037.6 | 申請日： | 2017-03-14 |
| 公開（公告）號： | CN107145038B | 公開（公告）日： | 2019-05-24 |
| 發明（設計）人： | 王闖;張浩然;劉前 | 申請（專利權）人： | 國家納米科學中心 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京路浩知識產權代理有限公司 11002 | 代理人： | 湯財寶 |
| 地址： | 100190 北*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 基于 大面積 分辨 激光 系統 圖形 刻寫 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種圖形刻寫方法，其特征在于，包括：
S1、旋轉源圖形文件并分割成多個可用于單幀刻寫的單幀圖形文件；
將原圖形文件逆時針或順時針旋轉，再進行邊緣的剪裁和校正，并分割輸出多個可用于單幀刻寫的單幀圖形文件；
進行邊緣的剪裁和校正時，針對非周期結構，根據源圖形文件的原始尺寸分割；針對周期結構，將圖像進行比例縮放，再進行分割；
S2、將所有的單幀圖形文件導入到激光直寫系統中進行刻寫并拼接。
2.根據權利要求1所述的圖形刻寫方法，其特征在于，所述步驟S1中，源圖形文件旋轉角度為-45°～45°。
3.根據權利要求1所述的圖形刻寫方法，其特征在于，所述步驟S1中，還包括對分割的單幀圖像文件按照位置關系進行對應編號。
4.根據權利要求1所述的圖形刻寫方法，其特征在于，在步驟S2中，所述激光直寫系統的激光脈沖為1～300mW，激光脈寬為10～20000ns。
5.根據權利要求1所述的圖形刻寫方法，其特征在于，所述步驟S2具體包括：以二維振鏡或多面轉鏡為掃描模塊，通過光柵掃描步進式刻寫模式在刻寫材料上刻寫，并通過氣浮式直線電機實現拼接。
6.根據權利要求5所述的圖形刻寫方法，其特征在于，所述刻寫材料為光刻膠、金屬薄膜或無極相變材料制成的，且以玻璃或硅為基底的單層或多層薄膜。
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