[發明專利]一種光學薄膜及電子設備蓋板

有效

• 申請號: 201710143432.1
• 申請日: 2017-03-11
• 公開（公告）號: CN108572407B
• 公開（公告）日: 2020-06-02
• 發明（設計）人: 高育龍;洪莘;張晟;袁泉
• 申請（專利權）人: 昇印光電（昆山）股份有限公司
• 主分類號: G02B3/00
• 分類號: G02B3/00;G02B3/06
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種光學薄膜，其特征在于，包括：

承載體；

微納結構層，所述承載體一表面設有溝槽，所述溝槽形成微納結構，所述溝槽內設有填充物，所述承載體包括空白區和內設有填充物的溝槽，形成所述微納結構層；

其中，所述微納結構層在至少一方向上存在視覺上漸變；

所述漸變通過調節溝槽與空白區的面積比、溝槽的深度、微納結構的周期或者微納結構的密度。

2.根據權利要求1所述的一種光學薄膜，其特征在于，所述漸變為顏色漸變，或灰度的漸變，或透過率的漸變，或反射率的漸變。

3.根據權利要求1所述的一種光學薄膜，其特征在于，所述漸變為透過率在至少一方向上變大或者變小。

4.根據權利要求1所述的一種光學薄膜，其特征在于，所述漸變為由亮到暗或由暗到亮的變化。

5.根據權利要求1所述的一種光學薄膜，其特征在于，所述微納結構為規則網格或隨機網格。

6.根據權利要求1所述的一種光學薄膜，其特征在于，所述微納結構為柱面鏡或微透鏡。

7.根據權利要求5所述的一種光學薄膜，其特征在于，所述規則網格或隨機網格中網格線為空白區，所述網格線圍成區域為溝槽；或網格線為溝槽，所述網格線圍成區域為空白區。

8.根據權利要求1所述的一種光學薄膜，其特征在于，還包括基質層，所述基質層設于所述承載體一表面，所述微納結構設于所述承載體遠離所述基質層的一側。

9.根據權利要求1所述的一種光學薄膜，其特征在于，還設有反射層，所述反射層位于所述微納結構一側。

10.根據權利要求9所述的一種光學薄膜，其特征在于，還設有著色層，所述著色層設于所述反射層遠離承載體的一側。

11.根據權利要求1所述的一種光學薄膜，其特征在于，所述填充材料為油墨、著色材料、染色材料、反射材料或存在折射率差材料中一種或兩種以上組合。

12.根據權利要求8所述的一種光學薄膜，其特征在于，所述基質層與所述承載體之間設有粘結層。

13.根據權利要求10所述的一種光學薄膜，其特征在于，所述著色層的材料為油墨、著色材料、染色材料、金屬材料或存在折射率差材料中一種或兩種以上組合。

14.一種電子設備蓋板，其特征在于，所述蓋板包括至少權利要求1～13任一所述的光學薄膜。