[發(fā)明專利]待測樣品處理方法、待測樣品處理芯片及待測樣品處理裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710139527.6 | 申請日： | 2017-03-09 |
| 公開（公告）號： | CN107356736A | 公開（公告）日： | 2017-11-17 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 山脅幸也;田川禮人;中野毅 | 申請（專利權(quán)）人： | 希森美康株式會社 |
| 主分類號： | G01N33/50 | 分類號： | G01N33/50;B01L3/00 |
| 代理公司： | 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標(biāo)事務(wù)所11038 | 代理人： | 鄭天松 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 樣品 處理 方法 芯片 裝置 | ||
1.待測樣品處理方法，其為用于使用有貯留部及液滴形成流路的待測樣品處理芯片處理待測樣品中的對象成分的待測樣品處理方法，其中
將上述對象成分和用于在液滴中以每1分子或每1個包含上述對象成分的指定量的稀釋液的混合液貯留到貯留部中，
對上述貯留部內(nèi)的上述混合液進行加熱，使上述貯留部內(nèi)發(fā)生熱對流而混合上述對象成分和上述稀釋液，
在上述液滴形成流路中，在分散介質(zhì)中形成含被稀釋的上述對象成分和與上述對象成分反應(yīng)的試劑的液滴。
2.權(quán)利要求1所述的待測樣品處理方法，其中在使在平板狀的上述待測樣品處理芯片的主平面的長邊方向或短邊方向的任一方與重力方向一致的狀態(tài)下，對上述貯留部內(nèi)的上述混合液進行加熱而使上述貯留部內(nèi)發(fā)生熱對流。
3.權(quán)利要求2所述的待測樣品處理方法，其中上述貯留部之中，通過對重力方向的下側(cè)部分的上述混合液進行加熱，形成用于使上述貯留部內(nèi)發(fā)生熱對流的溫度分布。
4.權(quán)利要求2所述的待測樣品處理方法，其中
在使在平板狀的上述待測樣品處理芯片的主平面的長邊方向或短邊方向的任一方與重力方向一致的狀態(tài)下，使沿重力方向的方向作為上述貯留部的縱方向，沿上述長邊方向或上述短邊方向的任一方之外的另一方的方向作為上述貯留部的橫方向時，
將上述混合液在上述貯留部中所占的縱方向的長度和上述混合液在上述貯留部中所占的橫方向的長度的長寬比成為0.1以上10以下的指定量的混合液貯留到上述貯留部。
5.權(quán)利要求1所述的待測樣品處理方法，其中將上述混合液加熱到50℃以上85℃以下的溫度而使上述貯留部內(nèi)發(fā)生熱對流。
6.權(quán)利要求1所述的待測樣品處理方法，其中通過在不足10分鐘的指時刻間期間、對上述混合液進行加熱，使上述對象成分和上述稀釋液完成混合。
7.待測樣品處理芯片，其為設(shè)置于待測樣品處理裝置、用于處理由上述待測樣品處理裝置供給的待測樣品中的對象成分的待測樣品處理芯片，其具備：
稀釋流路，其具有用于貯留上述對象成分和用于在液滴中以每1分子或每1個包含上述對象成分的指定量的稀釋液的混合液的貯留部，用于通過由配置于上述待測樣品處理裝置的加熱部發(fā)生的熱使上述貯留部內(nèi)發(fā)生熱對流，混合上述對象成分和上述稀釋液，及
液滴形成流路，其用于在分散介質(zhì)中形成含有在上述稀釋流路中被稀釋的上述對象成分和與上述對象成分反應(yīng)的試劑的液滴。
8.權(quán)利要求7所述的待測樣品處理芯片，其具備：
多個流體模塊，其上各自形成上述稀釋流路及上述液滴形成流路，
基板，其配置有上述多個流體模塊，及
連接流路，其用于連接配置于上述基板的各上述流體模塊，使被稀釋的上述對象成分自上述稀釋流路移動到上述液滴形成流路。
9.權(quán)利要求8所述的待測樣品處理芯片，其中上述基板的厚度是0.1mm以上5mm以下。
10.權(quán)利要求7所述的待測樣品處理芯片，其具備串聯(lián)連接的多個上述稀釋流路，
在前段的上述稀釋流路中被稀釋的上述對象成分和上述稀釋液的混合液之中，將指定量的混合液供給于后段的上述稀釋流路。
11.權(quán)利要求10所述的待測樣品處理芯片，其中上述多個稀釋流路，作為整體，以乘以各種上述稀釋流路的稀釋倍率而得到的稀釋倍率稀釋上述對象成分。
12.權(quán)利要求10所述的待測樣品處理芯片，其中上述多個稀釋流路，作為整體，以103倍以上107倍以下的稀釋倍率稀釋上述對象成分。
13.權(quán)利要求7所述的待測樣品處理芯片，其中上述稀釋流路以25倍以上1500倍以下的稀釋倍率稀釋上述對象成分。
14.權(quán)利要求8所述的待測樣品處理芯片，其中上述稀釋流路含用于向上述貯留部供給液體的第1流路，所述待測樣品處理芯片以沿上述基板的主表面延伸的方式形成，
上述貯留部具有在沿上述主表面的方向，上述貯留部的流路寬度相對于上述第1流路的流路寬度擴大的形狀。
15.權(quán)利要求14所述的待測樣品處理芯片，其中上述貯留部有沿上述主表面的長邊方向的上述貯留部的第1長度和沿短邊方向的第2長度的長寬比成為0.1以上10以下的形狀。
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