[發明專利]實現激光直接成像圖形均勻性的方法有效
| 申請號： | 201710131474.3 | 申請日： | 2017-03-07 |
| 公開（公告）號： | CN106990676B | 公開（公告）日： | 2019-03-29 |
| 發明（設計）人： | 尤鑫 | 申請（專利權）人： | 無錫影速半導體科技有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 無錫市大為專利商標事務所(普通合伙) 32104 | 代理人： | 殷紅梅 |
| 地址： | 214135 江蘇省無錫市新吳區太湖*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 實現 激光 直接 成像 圖形 均勻 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種實現激光直接成像圖形均勻性的方法，其特征是，所述方法包括如下步驟：
步驟1、利用FPGA將數字微鏡裝置DMD的一行像素點切分成若干等份，以得到若干等分區域，每個等分區域掃描的行數以及曝光能量可調；
步驟2、FPGA利用上述數字微鏡裝置DMD進行掃描曝光，以得到曝光圖形；
步驟3、測量得到上述整個曝光圖形的線寬以及每個等分區域掃描曝光圖形對應的線寬，根據測量得到整個曝光圖形的線寬確定圖形目標線寬，并根據確定的圖形目標線寬得到每個等分區域掃描曝光圖形的補償調整值；
步驟4、FPGA根據每個等分區域掃描曝光圖像的補償調整值調整相應等分區域的掃描行數，以使得在所述調整相應等分區域的掃描行數后，數字微鏡裝置DMD掃描曝光得到整個曝光圖形的線寬與圖形目標線寬相一致。
2.根據權利要求1所述的實現激光直接成像圖形均勻性的方法，其特征是：在FPGA內，設置用于控制每個等分區域掃描行數的控制參數，所述控制參數為一個四位十六進制數；FPGA通過調整控制參數來調整所需等分區域的掃描行數，且FPGA在調整控制參數時，調整步長為8的整數倍。
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