[發明專利]一種非接觸式氣體靜壓主軸氣膜流場測試系統

有效

• 申請號: 201710128420.1
• 申請日: 2017-03-06
• 公開（公告）號: CN106768828B
• 公開（公告）日: 2023-05-23
• 發明（設計）人: 陳國達;潘燁;計時鳴;譚大鵬;應申舜
• 申請（專利權）人: 浙江工業大學
• 主分類號: G01M9/06
• 分類號: G01M9/06
• 代理公司: 杭州天正專利事務所有限公司 33201
• 代理人: 王兵;黃美娟

1.一種非接觸式氣體靜壓主軸氣膜流場測試系統，其特征在于：包括氣體靜壓主軸、環形調節器、水平調節器、豎直調節器、激光發射頭、高速攝像機、像差矯正器、氣源、氣源處理器、示蹤粒子混合器、激光發生器、激光控制器、工控機以及示蹤粒子回收裝置，所述的氣體靜壓主軸位于環形調節器上方且與環形調節器同軸安裝；所述的水平調節器與豎直調節器互相垂直固定，且安裝于環形調節器上方，繞環形調節器做圓周運動；所述的激光發射頭固定于豎直調節器上，做豎直方向移動；所述的高速攝像機固定于水平調節器上，做水平方向移動；所述的像差矯正器安裝于高速攝像機前部；所述的激光發射頭通過光纜連接于激光發生器，激光頭發射平面激光，照射氣體靜壓主軸氣膜流場的某一平面，形成一個測試平面，高速攝像機對測試平面進行拍攝；所述的激光發生器通過電纜連接于激光控制器；所述的激光控制器通過電纜連接于工控機；所述的高速攝像機通過電纜連接于工控機；所述的氣源通過氣管依次連接氣源處理器、示蹤粒子混合器、氣體靜壓主軸；所述的環形調節器包括環形導軌和安裝在環形導軌上可沿環形導軌滑動的第一滑塊；所述的水平調節器固定于第一滑塊上；所述的水平調節器包括水平固定板，水平滑塊，水平粗調旋鈕和水平細調旋鈕；所述的水平粗調旋鈕控制水平滑塊在水平固定板上快速水平滑動，所述的水平細調旋鈕控制水平滑塊在水平固定板上慢速水平滑動；所述的豎直調節器固定于水平固定板上；所述的豎直調節器包括豎直固定板、豎直滑塊、豎直粗調旋鈕，豎直細調旋鈕，所述的豎直粗調旋鈕控制豎直滑塊在豎直固定板上快速豎直滑動，所述的豎直細調旋鈕控制豎直滑塊在豎直固定板上慢速豎直滑動；

所述的氣體靜壓主軸包括上止推盤、主軸、下止推盤、軸套、氣室外套，所述上止推盤、下止推盤分別與所述主軸的上下兩端面同軸密封固接，三者共同形成用于容納軸套的凹腔；所述軸套套在所述主軸外部，所述軸套與凹腔之間的間隙作為氣膜的容納腔；所述軸套的外壁設有用于容納氣室外套的凹槽，所述軸套外部套裝所述氣室外套，并且所述凹槽的上下槽壁分別與所述氣室外套上下兩端面密封固接；所述軸套設有軸向節流孔、徑向節流孔，所述軸向節流孔和徑向節流孔貫穿凹槽的槽壁，軸向節流孔和徑向節流孔與凹槽內腔連通；所述的氣室外套設有連接示蹤粒子混合器的進氣口；所述的上止推盤、主軸、下止推盤、軸套、氣室外套均采用透明材質。

2.如權利要求1所述的一種非接觸式氣體靜壓主軸氣膜流場測試系統，其特征在于：示蹤粒子回收裝置安裝于氣體靜壓主軸氣膜的出氣口外側；所述的示蹤粒子回收裝置為一環形套，上部有出氣孔，環內側與氣體靜壓主軸上的氣膜出氣口相通；示蹤粒子回收裝置采用透明材料。